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        • 产品名称: 双靶磁控溅射仪--VTC-600-2HD
        • 产品提示: 图片及数据仅供参考,具体请致电销售热线
        • 产品型号: VTC-600-2HD

        下载附件:

              VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪,其中一个靶头采用直流(DC)溅射,可溅射金属靶材制备金属膜,另一个采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜,如铁电、导电,合金,半导体,陶瓷,介电,光学,氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便,是一套理想的实验工具。

           

              免责声明:本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等)仅供参考。可能由于更新不及时和网站不可预知的BUG造成数据与实物的偏差。如果您对参数有异议,或者想了解产品详细信息,请与本公司销售人员联系。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知,请您见谅。

         
         

        技术参数

        设备名称

        双靶磁控溅射仪-VTC-600-2HD

         

         

         

         

        主要参数

         

        l输入电源:220V AC 50/60Hz   功率<2KW(包含真空泵)

         

        l溅射电源:安装有两个溅射电源:

        直流(DC)电源:500W,针对于制作金属膜

        射频(RF)电源:300W,可制作氧化物和金属膜

         

         

         

         

         

        主要特点

         

        l可制备多种薄膜,应用广泛

         

        l体积小,操作简便

         

        l真空腔室、真空泵组整机模块化设计,控制电源为分体式设计,可根据用户实际需要调整购买需求。

         

        可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪,购买前请联系我公司销售。

         

         

         

         

         

         

         

         

         

        磁控溅射头

         

        l仪器中安装有2个2英寸磁控溅射头,而且都带有水冷夹层(图一)

         

        l一个溅射头与射频电源相连接,主要是溅射绝缘性靶材

         

        l另一个溅射头与直流电源相连接,主要溅射导电性靶材

         

        l靶材尺寸要求:直径为50mm,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)

         

        l可以单独订购RF连接线作为备用(图二)

         

        l设备包含一台水冷机,用于靶头冷却(图

               
                 图一             图二            图三    

         

         

        载样台

         

         

        l载样台尺寸:φ140mm(最大可放置4"的基底)

         

        l载样台可以旋转,其速度为:1 - 20 rpm (可调)

         

        l载样台最高可加热温度为500℃

         

         

         

         

         

         

        真空腔体

         

        l真空腔体:φ300 mm  x 300 mm H,采用不锈钢制作

         

        l观察窗口:φ100 mm

         

        l腔体打开方式采用上顶开,使得换靶更加容易

          

         

         

        气体流量控制器

         

        l仪器内部安装有2个质量流量计,量程为:0-100sccm

         

        l气体流量设置可以在6英寸的触摸屏上进行操作

         

        l此系统运行需要Ar气,并且气瓶上安装有减压阀(设备中不包含)

         

         

         

         

         

        真空系统
         

         

        l配有一套GZK-103D分子泵系统(德国制作)

         

        l标准5E-5mbar 极限7.4E-6mbar仅供参考,详情请点击

         

         

         

         

         

         

        薄膜测厚

         

        l一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10 Å  

         

        lLED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据

         

         

         

         

        产品外型尺寸

         

         

        lL 1300mm× W 660mm× H 1200mm

         

        l净重160 kg

         

        质量认证

        CE认证

         

         

         

        质保

         

        一年保修,终身技术支持。


        特别提示:1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。

        2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。

         

        点击查看售后服务承诺书。

         

         

         

         

         

         

         

         

         

         

         

        使用提示

         

         

         

        l此设备为DIY设备,参数变化较大购买前请务必电话仔细沟通

         

        l为了得到较好的薄膜质量,必须通入高纯气体(建议> 5N)

         

        l在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净

         

        l要达到薄膜与基底良好结合,请在溅射前清洁基材表面

         

        l超声波清洗(详细参数点击下面图片):(1)丙酮超声(2)异丙醇超声-去除油脂(3)吹氮气干燥(4)真空烘箱除去水分。

         

        l等离子清洗(详细参数点击下面图片):可表面粗糙化,可激活表面化学键,可祛除额外的污染物。

         

        l制造一个薄的缓冲层(5纳米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以应用于改善金属和合金的附着力。

                       
           超声波清洗机         等离子清洗机                蒸镀仪                手套箱  

         

         

         

         

        警示

         

        l注意:产品内部安装有高压元件,禁止私自拆装,带电移动机体

         

        l气瓶上应安装减压阀(设备标配不包括),保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下,以安全使用

         

        l溅射头连接到高电压。为了安全操作者必须关闭设备前装样和更换靶

         

         

         

        免责声明

         

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