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        • 产品名称: 双靶磁控溅射仪--VTC-600-2HD
        • 产品提示: 图片及数据仅供参考,具体请致电销售热线
        • 产品型号:

        下载附件:

            VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪,其中一个靶头采用直流(DC)溅射,可溅射金属靶材制备金属膜,另一个采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜,如铁电、导电,合金,半导体,陶瓷,介电,光学,氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便,是一套理想的实验工具。

        操作视频

         

        技术参数

        结构

        (点击图片查看详细资料)

        输入电源

        • 220VAC 50/60Hz, 单相
        • 2000W  (包括泵)
        溅射电源
        • 安装有两个溅射电源
        • 直流(DC)电源:500W,针对于制作金属膜
        • 射频(RF)电源:600W,可制作氧化物和金属膜
        • 同时可选配300W的射频电源
            

        磁控溅射头

        • 仪器中安装有2个磁控溅射头,而且都带有水冷夹层,可通入冷却水对靶材降温
        • 其中一个溅射头与射频电源相连接,主要是溅射绝缘性靶材
        • 另一个溅射头与直流电源相连接,主要溅射导电性靶材
        • 靶材尺寸要求:金属靶:直径为50mm,最大厚度1.5mm
        •              陶瓷靶:直径为50mm,最大厚度6mm
        • 仪器中标配一个不锈钢靶和氧化铝陶瓷靶
        • 溅射头所需冷却水:流速10ml/min(仪器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机)

          也可以根据自己的要求选择2个射频溅射头或3个射频溅射头,订购前需于本公司销售人员联系

        真空腔体

        • 真空腔体:300 mm Dia x 300 mm h,采用不锈钢制作
        • 观察窗口:  100 mm diameter
        • 腔体打开方式采用上顶开,使得换靶更加容易
           

        载样台

        • 载样台尺寸:140mm dia.(最大可放置4"的基底)
        • 载样台可以旋转,其速度为:1 - 20 rpm (可调)
        • 载样台最高可加热温度为500℃,控温精度为+/- 1.0 °C

        气体流量控制器

        • 仪器内部安装有2个质量流量计
        • 量程为:0-200sccm
        • 气体流量设置可以在6英寸的触摸屏上进行操作

        真空泵(标配)

        配有一套GZK-103D分子泵系统(德国制作),采用一键式操作

                     

        薄膜测厚仪

        • 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10 Å  
        • LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据
           

        外形尺寸

        L1300mm× W660mm× H1200mm

        重量

        160 kg

        质保期

        一年质保期,终生维护