反射光谱薄膜测厚仪
型号:
TFMS-LD
产品概述:
TFMS-LD是一款反射光谱薄膜测厚仪,可快速精确地测量透明或半透明薄膜的厚度,其测量膜厚范围为15nm-50um,仪器所发出测试光的波长范围为400nm-1100nm。此款测试系统理论基础为镜面反射率,并且采用光纤反射探头。仪器尺寸小巧,方便于在实验室中摆放和使用。
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技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
测量膜厚范围

• 15nm-50um


光谱波长

• 400 nm - 1100 nm


主要测量透明或半透明薄膜厚度

• 氧化物

• 氮化物

• 光刻胶

• 半导体(硅,单晶硅,多晶硅等)

• 半导体化合物(ALGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS等)

• 硬涂层(碳化硅,类金刚石炭)

• 聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)

• 金属膜(点击图片可查看详细资料)


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特点

• 测量和数据分析同时进行,可测量单层膜,多层膜,无基底和非均匀膜

• 包含了500多种材料的光学常数,新材料参数也可很容易地添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等

• 体积较小,方便摆放和操作

• 可测量薄膜厚度,材料光学常数和表面粗糙度

• 使用电脑操作,界面中点击,即可进行测量和分析


精度

• 0.01nm或0.01%


准确度

• 0.2%或1nm


稳定性

• 0.02nm或0.02%


光斑尺寸

• 标准3mm,可以小至3um


要求样品大小

• 大于1mm


分光仪/检测器

• 400 - 1100 nm 波长范围

• 光谱分辨率: < 1 nm

• 电源 100 -250 VAC, 50/60 Hz 20W

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光源

• 5W的钨卤素灯

• 色温:2800K

• 使用寿命:1000小时


反射探针

• 光学纤维探针,400um纤维芯

• 配有分光仪和光源支架


栽样台

• 测量时用于放置测量的样品

 TFMS-LD 4.jpg

通讯接口

• USB接口,方便与电脑对接


TFCompanion软件

• 强大的数据库包含500多种材料的光学常数(n:折射率,K:消失系数)


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• 误差分析和模拟系统,保证在不同环境下对样品测量的准确性

• 可分析简单和复杂的膜系

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设备尺寸

• 200x250x100mm


重量

• 4.5kg


1、通过椭偏仪、SEM、反射光谱测厚仪(进口、国产)三者检测结果的对比,薄膜厚度偏差< 2 nm。


2、沈阳TFMS-IV膜厚仪与美国TFMS-LD薄膜测厚仪测量膜厚的平均值相差 2 nm;


3、反射光谱侧厚相比于SEM测厚,操作更加便捷,对操作人员要求并不高。


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应用技术提示


·厂家配备的校准基片,请勿丢失。


·校准基片在使用时,要注意操作规范,请勿划伤或污染基片。


·使用结束后,需要用无尘布将设备镜头和样品台面盖住。


·测试过程需要在较为洁净的环境下进行。


·待测基片在检测前要注意保管和清洗,防止出现检测样品偏差过大。


·检测金属需要注意薄膜厚度,只有低于40或50nm厚度的金属膜才可以被测量。较厚的金属膜是不透明的,因此不能用TFMS-LD测量,实际测量厚度取决于金属类型。假定金属膜表面是光滑的,下表显示了几种金属的可测量厚度。

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·表面粗糙度会引起散射使测量厚度减小。




警示


·不要直视光源或探头,以免伤害眼睛。


·一定要确保光纤探头端口连接。


·光纤不可过度弯折。


·镜头不可使用粗糙物擦拭,防止造成镜头划伤,影响检测。




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