此次总结的只是部分常见的薄膜制备方法；随着科技的进步，薄膜的制备方法已经层出不穷，各种新技术被科研工作者们研发出来；合肥科晶致力于研发材料的全套解决方案，未来将会研发出更多更全的薄膜制备设备以满足客户的需求。
分类 | 详细制备方法 | 设备推荐 | 实验案例 | 提示 | ||
名称型号 | 图片 | |||||
物理法 | 物理气相沉积—PVD（Physical Vapor Deposition） | 真空蒸发镀膜 | 程序控温型四坩埚蒸发镀膜仪GSL-1700X-EV4 |
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溅射镀膜 | 三靶射频磁控溅射镀膜仪VTC-3RF |  |
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其他物理法 | 流延涂敷 | 400 mm 200℃底部加热型涂覆机MSK-AFA-H200A |
| 流延涂敷现在是做锂电池一道必不可少的工序，用来在做锂电池的正负极片。 | ||
旋涂涂覆 | 超声旋转喷涂仪VTC-300USS |
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提拉涂覆 | 程控提拉涂膜机PTL-MM02 |
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静电纺丝法 | 小型静电纺丝机（辊筒收集器，加热功能）MSK-NFES-1 |
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丝网印刷 | 小型半自动丝网印刷机SPC-3050 |
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化学法 | 化学气相沉积—CVD（Chemical Vapor Deposition） | 低真空CVD | 1200℃单温区三通道混气CVD系统OTF-1200X-80-I-F3LV |
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高真空CVD | 1200℃三温区二通道混气高真空CVD系统OTF-1200X-III-HVC |
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等离子体增强CVD | 4路质子混气管式PECVD系统OTF-1200X-50-4CLV-PE |
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其他化学法 | 原子层沉积（ALD） | 双通道ALD管式炉系统ALD-1200X-4 |
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薄膜检测设备 | 反射光谱薄膜测厚仪TFMS-LD |
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常见衬底 |
ITO导电玻璃 石英玻璃（SiO2）基片 Si晶体基片 | |||||
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