中美合资 合肥科晶材料技术有限公司-管式炉,马弗炉,高温炉,单晶基片,靶材,箱式炉,气氛炉,CVD管式炉,PECVD系统....


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化学气相沉积(CVD)选型

浏览次数: 日期:2017-01-18
前记:化学气相沉积(CVD)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术,理论上即:两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内,然后他们相互之间发生化学反应,形成一种新的材料,沉积到晶片表面上。所以普通CVD实验设备则由三套及以上的设备组合而成即:高温炉(提供实验温度)+供气系统(提供多种气体混合)+真空系统(提供实验环境)。化学气相沉积(CVD)设备的灵活度很高,客户可根据自己实验要求选择合适的产品来组合,或者直接选择套装(请点击这里)。
 
建议:如果您是在分开购买CVD设备时最好跟科晶人员沟通是否需要一些必须的配件,以防分体购买CVD中的设备造成配件不全不能立即实验的问题。
 
一.高温炉选择(CVD系统中一般是管式炉):高温炉为CVD实验提供材料沉积所需要的温度
 

1、如何选择管式炉?(请点击此链接)

 
二、供气系统选择:
 
  • 供气系统即混气装置,它可以实现2种或者2种以上的气体或者蒸汽按照一定的比例来混合,然后通入高温炉中
  • 本公司根据流量计的不同分为2类
     
1.气体流量计:
 
  • 浮子流量计:气体通过普通的浮子流量计粗略的估计进气量。如GSL-2F、GSL-3F
  • 质量流量计:气体通过D07质量流量计精确控制进气量。如GSL-2Z、GSL-3Z、GSL-4Z等
     
 
2、气液混合流量计:
 
  • 用于液体高温气化后导入CVD系统的设备,有建议版和精确控制版本两种可选
     

 
三、真空系统选择:
 
  • 真空系统为CVD实验提供实验的真空环境,将管式炉中的空气抽走,达到真空的环境。客户根据自己实验所需真空度大小及实验所需清洁程度来选择合适的真空装置。
  • 本公司根据真空泵的不同分为2类:
(1)低真空系统GZK-101。采用4L/S的双级真空泵,标配电阻规真空计
(2)高真空系统GZK-103。采用进口分子泵,自带真空计。GZK-103G。采用国产分子泵,自带真空计
(3)另,若经费有限,客户也可以只购买单独的真空泵、真空计和真空泵连接配件来实现抽真空的步骤

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