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        产品详情
        • 产品名称: 定向CVD生长炉--OTF-1200X-50-DSL
        • 产品提示: 图片及数据仅供参考,具体请致电销售热线
        • 产品型号:
        • 浏览次数: 1032

            OTF-1200X-50-DSL是一款水平滑轨炉,其炉管直径为Φ50mm,炉体滑动速度可以根据实验需要而设置(1mm/sec-100mm/s),并可以设置左右反复滑动,同时还可以设置炉体的滑动距离。此款管式炉专门设计用CVD方法定向生长单壁碳纳米管(SWCNTs)。通时此款滑轨炉也可用来在硅片上生长熔点较低的金属单晶。此系统包含了可设30段程序的高温炉、一根Φ50*1000mm的石英管和一套不锈钢真空法兰。(更新时间:2018.6.12 — XI)

         

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        操作视频

        技术参数

        炉体结构

        功率

        1.5KW

        电压

        AC220V,单相

        最高共工作温度

        1200℃(≤1小时)

        连续工作温度

        1100℃

        加热区域

        • 加热区:200mm(单温区)
        • 通过管堵位置和炉体移动可形成想得到的温度梯度

         
        (点击图片查看大图)

        加热元件

        掺钼铁铬铝(表面涂有高温氧化锆涂层,可延长其使用寿命)

        炉管

        • 高纯石英管
        • 尺寸:50 mm OD x 46mm ID x 1000 mm L
        • 仪器加热前,必须放入管堵,以防止热量辐射影响法兰的密封性

        温控系统

        • 采用PID方式调节温度,可设置30段升温、降温和保温程序
        • 设置有温度过高和断偶保护系统
        • 控温精度:±1℃
        • 可选测PC控制软件,将升温程序和温度曲线导入到电脑中
        • 控温仪表操作视频

         

        炉体滑动控制系统


         

         

        • 触摸屏控制
        • 炉体移动有手动和自动控制两种控制状态,在手动状态和自动状态下均可设定左右移动的速度,但只有在自动状态下才能设定左右移动的次数。
        • 含蜂鸣报警器,当炉体触碰到限位开关就会产生报警,并切断控制电路,使炉体停止移动。
        • 可显示高温炉内的炉温,与之通讯

        密封法兰

        • 仪器中配有一套不锈钢密封法兰(上面已安装不锈钢针阀和机械压力表)
        • 法兰上有一Φ6.35的铠装孔,可将热电偶插入到炉管中,更准确地测量样品的实际温度
        石英气体喷嘴

        可选配石英气体喷嘴,将反应气体与缓冲清洗气体分开通入,可有效减少副反应发生,实现高端CVD工艺,如局部控制前体浓度化学气相沉积工艺(ALC CVD)或单晶二维材料薄膜的生长工艺等。

         

         

        真空度

        滑轨长度

        1200mm

        操作视频 点击查看

        产品尺寸

        • 315 x 300 x 380  mm (炉体
        • 1200 x 400 x 530 mm ( 整个外形)
        • 360 x 180 x 300 mm(电器控制柜)

        重量

        100KG

        质保期

        一年质保期,终生维护(不包括炉管、硅胶密封圈和加热元件损耗件)

        质量认证

          CE certified

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