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        产品详情
        • 产品名称: Si+SiO2薄膜
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        • 产品型号:
        • 浏览次数: 748

        产品名称:

        Si+SiO2薄膜

        产品简介:

         

        技术参数:

        常规晶向:

        <100>, <111>,

        掺杂类型:

        N型掺杂 或者 P型掺杂

        制作方法:

        干法或湿法

        薄膜厚度:

        常规厚度300nmSiO2

         

        常规尺寸:

        dia4"x0.5mm;dia2"x0.5mm;单面氧化 或者 双面氧化

        可按照客户要求加工氧化层厚度:50nm~1um

        标准包装:

        1000级超净室100级超净袋单片盒或25片插盒封装

         

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