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        产品详情
        • 产品名称: 恒压控制系统-GZK-PID-VRD24
        • 产品提示: 图片及参数仅供参考,详情请致电公司销售。
        • 产品型号: GZK-PID-VRD24
        • 浏览次数: 134

         

            GZK-PID-VRD24是一款低真空恒压控制系统,内部含一抽速可达6.6L/s的双级旋片机械泵VRD-24,通过PID控制真空泵的转速来控制抽气速率,进而获得对腔室内压力的精密测量和恒压控制,可与我公司的管式炉、镀膜仪等设备结合,实现PVD、CVD以及PECVD等工艺的压力恒定的精确控制。广泛应用于扩散、氧化、外延、CVD、等离子溅射以及镀膜工艺、光纤熔炼、混气配气系统及其它分析仪器中。

         

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        技术参数

        产品特点

         

        • 含一双旋片机械泵VRD-24,抽速可达6.6L/s

         

        • PLC触摸屏控制,触摸屏显示真空度及各项工作状态,一键式操作,方便快捷

         

        • 通过变频器来PID调节真空泵的电机转速从而控制抽气速率,使抽气速率与进气量、漏气率相匹配,从而达到精确的恒压控制

         

        输入电源

         

        • 208-240VAC, 单相, 50/60Hz

         

        • 功率为1000W

         

        真空测量单元

         

        • 型号:PGC-554-LD

         

        • 测量范围:3.8E-5 to 1125 Torr

         

        • 精度:

         

        3.7×10-4 … 7.5×10-4 torr (N2) % of reading ±50 

         

        7.5×10-4 … 75 torr (N2) % of reading ±15 

         

        75 … 713 torr(N2) % of reading ±5 

         

        713 … 788 torr(N2) % of reading ±2.5

         

        真空泵系统

         

         

        • 机械泵型号:VRD-24

         

        • 抽速:6.6L/S

         

        • 进气口:KF25

         

        • 工作环境温度:5-40℃

         

        • 噪音:≦58 dB  

         

        • 极限真空度:3*10-4 torr(不带负载)

          

         

        压力恒定控制系统  

         

        • 压力恒定控制范围(进气气氛为氩气):

         

        760mtorr(100Pa)-----225torr(30000Pa)(按照进气量为500sccm)

         

        600mtorr(80Pa)-----200torr(26660Pa)(按照进气量为300sccm)

         

        300mtorr(40Pa)-----185torr(24660Pa)(按照进气量为100sccm)

         

        180mtorr(24Pa)-----100torr(13333Pa)(按照进气量为50sccm)

         

        • 压力恒定控制精度:180mtorr-----2.5torr(±%10)

         

                           >2.5torr-----10torr(±%40)

         

                           >10 torr------200torr(±%5)

          

         

        外型尺寸

        • 600mm(L) x 745mm(W) x 700mm(H)

        产品重量

        • ~40kg

        质保期

        • 一年质保期,终身维护

        应用

         

        • 此系统配套上相应的不锈钢密封法兰系统可以和本公司的真空管式炉和CVD、PECVD系统相连接,实现气氛的恒压控制。

           

        • 此系统与本公司磁控溅射仪等镀膜设备匹配使用,可实现反应磁控溅射的气氛恒压控制。

                

         

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