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        产品详情
        • 产品名称: 2英寸300W射频磁控溅射镀膜仪-VTC-2RF
        • 产品提示: 图片及数据仅供参考,具体请致电销售热线。
        • 产品型号: VTC-2RF
        • 浏览次数: 1703

             VTC-2RF是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如300W13.5MHz)的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款物美价廉的实验帮手。

         

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        我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜
          

            
        技术参数

        设备名称

        2英寸300W射频磁控溅射镀膜仪-VTC-2RF

         

         

         

        视频

                       操作视频

         

         

         

         

         

        主要参数

         

        输入电源:220V AC 50/60Hz

         

        整机功率800W包括真空泵)

         

        射频电源最高使用功率:300W

         

        靶头数量:单个2英寸磁控溅射靶头

         

        样品台加热温度:500℃

         

         

         

         

         

         

         

         

         

         

         

        射频电源

         

        设备有两种射频电源可选分别为:(图一、二)

         

        l300W自动匹配射频电源

         

        l100W的手动匹配射频电源

         
                  图一               图二

        注意:

        l2英寸靶头最大使用功率为300W

         

        l自动射频电源的最大功率为300W,但是受靶头限制,最大功率只能使用100W

         

        l自动匹配电源价格相对贵,但是操作非常方便,无需手动调节,可以节约时间

         

        l此设备支持多种DIY方案,购买前请务必与我公司销售联系,同时欢迎您带料到科晶实验室实验

         

         

         

        溅射腔体

         

        l采用石英腔体,尺寸:166 mm OD×150 mm ID×250 mm H

         

        l密封法兰:直径为165 mm,采用金属制作,密封采用O形密封圈

         

         

         

         

         

         

         

         

        溅射头&样品台

         

        l一个2英寸磁控溅射头(带有水冷夹层),采用快速接头与真空腔体相连接

         

        l仪器中安装有直径为50mm的不锈钢可旋转样品台,其与溅射头之间距离30-80mm可调

         

        l样品台可加热加热温度室温-500℃

         

        l安装有一可手动操作的挡板

         

        l最大可制膜的直径为:4英寸(点击图片查看详细资料)

           

         

         

         

         

         

         

         

         

         

        真空系统
         

         

        l安装有KF25真空接口

         

        l数字真空压力表(Pa)

         

        l此系统运行需要Ar气,并且气瓶上安装有减压阀(设备中不包含)

         

        l< 1.0E-2 Torr(采用机械泵)参考值,详情请点击

         

        l< 1.0E-5 Torr(采用涡旋分子泵)参考值,详情请点击

         

        l可在本公司选购各种真空泵

         

         

         

         

        进气

         

        l设备上配1/4英寸进气口方便连接气瓶

         

        l设备前面板上装有一气流调节旋钮,方便调节气流

         

         

         

         

         

        靶材

         

        l靶材尺寸要求:Φ50mm×(0.1-3) mm(厚度)

         

        l可在本公司选购各种靶材

         

         

         

         

        薄膜测厚仪(可选)

         

        可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上

           

         

         

         

         

        产品外型尺寸

         

        540 mm L×540 mm W×1100 mm H

        净重70 kg(不包括泵)

        质量认证

        CE认证

         

         

         

         

        质保

         

        一年保修,终身技术支持。


        特别提示:1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。

        2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。

         

        点击查看售后服务承诺书。

         

         

         

         

         

         

         

         

         

         

         

         

         

         

         

         

        使用提示

         

         

        l此设备有多种DIY方案可供选择,具体请联系销售部

         

        l为了保证溅射效果,非导电靶材必须安装铜垫

         

        l可在本公司购买单晶基片从A到Z(点击查看详情

         

        l本公司溅射镀膜机在500已经成功ZnO溅射在Al2O3衬底上(点击下图查看XRD图谱

         

        l有时为了达到理想的薄膜厚度,可能需要多次溅射镀膜

         

        l为了得到较好的薄膜质量,必须通入高纯气体(建议> 5N)

         

        l在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净

         

        l要达到薄膜与基底良好结合,请在溅射前清洁基材表面

         

        l超声波清洗(详细参数点击下面图片):(1)丙酮超声(2)异丙醇超声-去除油脂(3)吹氮气干燥(4)真空烘箱除去水分。

         

        l等离子清洗(详细参数点击下面图片):可表面粗糙化,可激活表面化学键,可祛除额外的污染物。

         

        l制造一个薄的缓冲层(5纳米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以应用于改善金属和合金的附着力。

                       
            超声波清洗机          等离子清洗机                 蒸镀仪                 手套箱  

         

         

         

        免责声明

         

         

        本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等)仅供参考。可能由于更新不及时和网站不可预知的BUG造成数据与实物的偏差。如果您对参数有异议,或者想了解产品详细信息,请与本公司销售人员联系。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知,请您见谅。


         

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