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        产品详情
        • 产品名称: 小型直流磁控等离子溅射仪--VTC-16-D
        • 产品提示: 图片及数据仅供参考,具体请致电销售热线。
        • 产品型号: VTC-16-D
        • 浏览次数: 1591

            VTC-16-D是一款小型直流磁控等离子溅射镀膜仪,其靶头尺寸为2英寸,并且样品台的高度可以调节。此款镀膜仪设计主要是制作一些金属薄膜,最大制膜面积为4英寸。

         

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             配件说明


        技术参数

        设备名称

        小型直流磁控溅射仪-VTC-16-D

         

         

         

        特点

         

        l特别为SEM样品镀导电性薄膜设计

         

        l体积小巧,操作简单,容易上手。

         

        l拥有小型磁控靶头,可以镀金银铂等金属。

         

         

         

         

         

         

        主要参数

         

        输入电源:220V AC 50/60Hz

          

        功率200W

         

        输出电压:500 VDC

            

        溅射电流:0-50 mA可调

         

        溅射时间:0-120S可调

         

         

         

        溅射腔体

         

        l采用石英腔体,尺寸:166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H

         

        l密封:采用不锈钢平法兰的O形密封圈

         

         

         

         

         

         

         

         

        溅射头&样品台

         

        l溅射头可安装靶材直径为2英寸,厚度0.1 - 2.5mm

         

        l溅射时间1-120S可调

         

        l仪器中安装有直径为50mm的不锈钢样品台,其与溅射头之间距离30-80mm可调。

         

        l可选购加热型样品台,其最高加热温度为500℃

         

        l安装有一可手动操作的溅射挡板,可进行预溅射。

         

        l最大可制膜的直径为:4英寸仅供参考,详情请点击

            

         

         

         

         

         

         

         

         

         

        真空系统
         

         

        l安装有KF25真空接口

         

        l数字真空压力表(Pa)

         

        l此系统可通入气体运行

         

        l< 1.0E-2 Torr (采用机械泵)(仅供参考,详情请点击

         

        l< 1.0E-5 Torr(采用涡旋分子泵)(仅供参考,详情请点击

         

        l可在本公司选购各种真空泵

         

         

         

         

        进气

         

        l设备上配1/4英寸进气口,方便连接气瓶

         

        l设备前面板上装有一气流调节旋钮,方便调节气流

         

         

         

         

        靶材

         

        l靶材尺寸要求:Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度)

         

        l此设备标配为铜靶

         

        l可在本公司选购各种靶材

         

         

         

         

        薄膜测厚仪(可选)

         

        可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上

           

         

         

         

         

         

        产品外型尺寸

         

        L460 mm × W 330 mm × H 540 mm

        净重20 kg(不包括泵)

         

        质量认证

        CE认证

         

         

         

        质保

         

        一年保修,终身技术支持。


        特别提示:1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。

        2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。


        点击查看售后服务承诺书。

         

         

         

         

        各种靶材的参数(仅供参考)

         

        对于溅射各种金属靶材,需要摸索最理想的溅射参数,下表是本公司实验所设置的参数,欢迎您带料来科晶实验室摸索工艺仅供参考,详情请点击

         

         靶材种类

          真空度(Pa)

          溅射电流(mA)

          时间 (s)

         溅射次数

           Au

           31-33

            28-30

           100

            1

           Ag

            31

              28

           100

            1

         

         

         

         

         

         

         

         

         

         

         

         

         

         

        使用提示

         

         

        l有时为了达到理想的薄膜厚度,可能需要多次溅射镀膜

         

        l在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净

         

        l要达到薄底良好结合,请在溅射前清洁基材表面

         

        l超声波清洗(详细参数点击下面图片(1)丙酮超声,(2)异丙醇超声-去除油脂,(3氮气干燥,(4真空烘箱除去水分

         

        l等离子清洗(详细参数点击下面图片:可表面粗糙化,激活表面化学键,可祛除额外的污染

         

        l制造一个薄的缓冲层(5纳米左右Gr,Ti,Mo,Ta,可以应用于改善金属和合金的附着力。

         

        l请使用>5N纯度氩气等离子体溅射

         

        l溅射镀膜机可放入ArN2气体手套箱中溅射

         

        l由于能量低,该模型不适用于涂层的轻金属材料如Al,Mg,Zn,Ni。请考虑我们的磁控溅射镀膜机或热蒸发镀膜机。点击下面图片查看细节

                          
           超声波清洗机        等离子清洗机     大功率磁控溅射仪          蒸发镀膜仪  

         

         

         

         

        警告

         

        l注意:产品内部安装有高压元件,禁止私自拆装,带电移动机体。

         

        l气瓶上应安装减压阀(不包括),保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下,以安全使用

         

        l溅射头连接到高电压。为了安全操作者必须关闭设备前装样和更换靶头。

         

         

         

        免责声明

         

        本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等)仅供参考。可能由于更新不及时和网站不可预知的BUG造成数据与实物的偏差。如果您对参数有异议,或者想了解产品详细信息,请与本公司销售人员联系。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知,请您见谅。

         

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