下一页： Si+SiO2薄膜 （ 进口）
产品名称：
Si+SiO2薄膜
产品简介：
技术参数：
常规晶向：
<100>, <111>,
掺杂类型：
N型掺杂 或者 P型掺杂
制作方法：
干法或湿法
薄膜厚度：
常规厚度300nmSiO2
常规尺寸：
dia4"x0.5mm；dia2"x0.5mm；单面氧化 或者 双面氧化
可按照客户要求加工氧化层厚度:50nm~1um
标准包装：
1000级超净室100级超净袋单片盒或25片插盒封装
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