下一页: Si+SiO2薄膜 ( 进口)
产品名称:
Si+SiO2薄膜
产品简介:
技术参数:
常规晶向:
<100>, <111>,
掺杂类型:
N型掺杂 或者 P型掺杂
制作方法:
干法或湿法
薄膜厚度:
常规厚度300nmSiO2
常规尺寸:
dia4"x0.5mm;dia2"x0.5mm;单面氧化 或者 双面氧化
可按照客户要求加工氧化层厚度:50nm~1um
标准包装:
1000级超净室100级超净袋单片盒或25片插盒封装
相关产品:
A~Z系列晶体
A~Z系列薄膜
晶片包装盒系列
等离子清洗机
镀膜仪
下载附件: