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        • 产品名称: 程序控温型四坩埚蒸发镀膜仪-GSL-1700X-EV4
        • 产品提示: 图片及参数仅供参考,详情请致电公司销售。
        • 产品型号: GSL-1700X-EV4

        下载附件:

            GSL-1700X-EV4是一款小型温控型蒸发镀膜仪,内部设有4个蒸发坩埚,且每个蒸发坩埚都带有挡板,最多可放置4种不同的蒸发物料,可在同一气氛下依次镀膜,实现多层膜的沉积工艺。可程序控温,控温范围200-1500℃(选用B型热电偶:1200℃-1700℃),最大可蒸镀直径2英寸薄膜样品,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。

         

            免责声明:本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等)仅供参考。可能由于更新不及时和网站不可预知的BUG造成数据与实物的偏差。如果您对参数有异议,或者想了解产品详细信息,请与本公司销售人员联系。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知,请您见谅。

         

        技术参数

        产品结构

         

         石英真空腔体:280mm OD×260mm ID×310mm H,易清洗和放入样品

         

         安装有一个2英寸的样品台,并且样品台可以旋转,使所制薄膜达到更好的均匀性

         

         采用钨丝篮作为发热源,最高温度可达到1700℃,并且配用专用氧化铝舟,可装入样品(仅1600℃以下使用,若蒸发温度大于1600℃,样品应直接放在钨丝篮中)

         

         精确控温:可设置30段升降温程序,控温精度为+/-1℃

         

         真空度:10-5Torr(如采用分子泵系统)

         

         进气系统可实现腔体的清洗和反应蒸发镀膜

         

        工作电源

         

         电压:AC220V50/60Hz,单相

         

         功率:1200W,最大电流为30A

         

        温控及加热源

         

         4蒸发坩埚,每个容积为3mL。四坩埚可依次进行蒸发,实现多层膜沉积工艺(不能同时蒸发)

         

         采用钨丝篮作为发热源,并且配有专用的氧化铝坩埚,热电偶安装在坩埚底部,以便于温度测量和控制(如图1

         

         标准采用S型热偶:工作温度为200℃-1500℃(图2

         

         可选B型热电偶:工作温度为1200℃-1700℃

         

         安装有一个数显的温度控制器:可设置30段升降温程序,控温精度为+/- 1ºC(如图3

         

         也可将仪器转换到手动调节接状态,内部不安装热电偶,直接采用手动调节输出电流大小,发热源温度可高达2000℃,可实现对样品镀碳等实验(图4

         

         仪器中配备4个蒸发坩埚,每个坩埚均配有2个钨丝蓝加热元件

                  

                            图1                                    2                                              3                                            4                                    图5

         

        样品台

         

         

         仪器顶部安装有样品台,直径为Φ50mm

         

         样品台可旋转,转速为:5rpm

         

         样品台和蒸发源之间的距离可以调节,调节范围为:40mm-85mm

         

         

        样品厚度监测(可选)

         

         腔室内可安装精密的薄膜测厚仪,可点击图1&2查看详情。测厚精度可达0.10 Å测厚仪LED显示可实现:

         

        根据数据库,输入涂层信息

         

        显示镀膜总厚度以及镀膜速度

         

         可选购反射光谱薄膜测厚仪--TFMS-LD,用于薄膜厚度的检测,点击图3查看详情

                  

                    图1                               2                                             3

         

        真空系统(选配)

         

         设备上有一KF25接口用于连接真空泵

         

         最高真空度可达4.0E-6 Torr(采用涡旋分子泵)

         

         双极旋片真空泵或干泵,可使仪器真空腔体的真空度达到10-2Torr

         

         真空度达到10-2torr时,可蒸发一些贵金属,如金和铂,也可蒸发一些有机材料,可选购数显防腐真空计PCG-554(测量范围3.8x10-5 to 1125 Torr.)

         

         高真空度可达4.0E-6 Torr(采用涡旋分子泵),此时可蒸发对氧敏感的材料,如Al. Mg, Li,分子泵上带有复合真空计(最高可测量真空度为1.0E-7Torr

         

         可在本公司选购各种真空泵和真空计

           

         

        进气口

         

         进气接口为1/4NPS,可向真空腔体中通入惰性气体,对腔体进行清洗,也可通入反应气体,进行反应蒸发镀膜

         

         进气口安装有一针阀,用于调节进气流量

         

        耗材

         注:氧化铝坩埚以及钨丝蓝为耗材,可与本公司销售联系购买  

            

         

        产品尺寸

         

         总体尺寸:550mm L×550mm W×750mm H

         

         石英腔体尺寸:280mm OD×260mm ID×310mm H

          

         

        质量认证

         CE认证

        质保期

         一年保质期,终生维护

        产品质量

         80kg

        应用注意事项

         

         为了获得高真空度,可采用以下做法


        (1)使用前要检查密封圈和法兰上是否有异物或划痕,并用酒精擦洗


        (2)抽真空时,用外部加热装置将腔体烘烤到200℃,氧化铝坩埚预加热到500℃,保持2小时

         

         使用温度高于1300℃时,保温时间不可大于1小时,否则会损坏密封圈

         

         当腔体的各阀门关闭时,请勿开启升温程序或手动调节电流进行加热

         

         当仪器正在蒸发材料时,不可打开泄气阀或关闭真空泵,只有当加热温度降至100℃时,才可放气或关闭真空泵