中美合资 合肥科晶材料技术有限公司-管式炉,马弗炉,高温炉,单晶基片,靶材,箱式炉,气氛炉,CVD管式炉,PECVD系统....


 
科晶新品
根据应用寻找设备
根据应用寻找晶体
-- A-Z晶体及材料 --
A-Z系列晶体
A-Z系列靶材
A-Z系列蒸发料
A-Z系列薄膜
A-Z系列金属丝箔 
A-Z系列粉料 
陶瓷玻璃及其他基片
晶体包装材料及工具
功能纳米材料
-- 加热炉系列 --
箱式炉
管式炉
混合箱/管式炉
高通量炉
CVD系统
氢气炉/高温高压炉
RTP快速退火炉
熔炼/铸造系列
晶体生长炉
工业炉
烘箱/真空储存箱
加热炉配件及耗材
-- 薄膜制备设备 --
等离子镀膜设备
蒸发镀膜设备
流延涂覆设备
化学气相沉积薄膜设备
静电纺丝/喷涂设备
丝印涂覆设备
旋涂/提拉涂覆设备
薄膜检测设备
-- 样品处理设备 --
混料、球磨系列设备
实验室压机/辊压机
清洗机设备
切割设备
研磨抛光设备
-- 电池研发全套设备 --
扣式电池研发设备
柱状电池研发设备
软包电池研发设备
超越锂电/固态电池
太阳能电池/燃料电池
电池测试设备
电池研发材料
-- 其他实验室设备 --
供气系统
真空系统
手套箱
检测设备
水冷机
电子天平
配件耗材

        • 产品名称: 桌面式金属甩带炉-VTC-200
        • 产品提示: 图片及参数仅供参考,详情请致电公司销售。
        • 产品型号:

        下载附件:

            VTC-200是一款小型桌面式真空金属甩带炉,用于制备非晶态金属材料。在该工艺中,金属锭(<20g)通过感应加热的方式进行熔化,之后利用气流进行推动,通过坩埚底部细孔或扁口形成细流滴落到快速旋转的冷铜辊表面,从而达到快速淬火的效果,得到非晶态金属带片。

        特点:

        1.不锈钢高真空腔体前置观察窗口

        2.涡轮分子泵系统可实现高真空(10-4Pa)

        3.进出气口可进行惰性气体置换,从而有效避免样品在熔融甩带过程中的水氧接触反应

        4.铜辊转速、感应加热功率、坩埚温度以及熔体推动气流压力可调,从而实现更为精密的甩带工艺控制。

         

             对于高校科研院所对甩带工艺及非晶金属的调控摸索制备,VTC-200是一款理想的实验型设备。

         

               免责声明:本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等)仅供参考。可能由于更新不及时和网站不可预知的BUG造成数据与实物的偏差。如果您对参数有异议,或者想了解产品详细信息,请与本公司销售人员联系。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知,请您见谅。

         

         技术参数

         

         

         

        产品特征

         

         

        • 小型桌面式设计,可节省实验室空间和能耗

         

        • 7KW感应熔炼系统,最高温度可达1700℃

         

        • 铜辊:尺寸:φ200mm*40 mm W

               转速:0~30m/s可调

         

        • 金属样品重量:5~20g(实验室级别)

         

        • 坩埚到铜辊距离:0-10mm(手动调节)

         

        • 标配真空喷铸系统,用于金属铸造

          

         

         

         

        工作电源

         

        • 电压:AC220V,50/60Hz

         

        • 功率:7KW(需50A的空气开关)

         

        控制系统

        • 可通过控制面板对各参数进行调控,包括:温度和感应加热功率控制,铜辊旋转开/关及调速、机械/涡轮泵开/关、进气卸气开/关、甩带开/关。

         

        真空腔体

         

         

        • 不锈钢真空腔体尺寸:300×300×480mm (W×D×H)

         

         铰链式前门设置有φ120mm石英观察窗口并配备有照明装置,更为直观清晰的观察实验过程

         

        • 真空度可达5 x10 E-5 torr (涡轮分子泵系统)

         

        • 腔体配备有KF40真空口,本公司有多款真空系统可供选购

             

         

         

         

         

         

        感应加热系统

         

        • 7KW感应加热系统

         

        • 熔炼温度:500-1700℃

         

        • 可熔样品量:5-20g

         

        • 可选B型热电偶测温系统进行测温(避免与熔体直接接触)

         

         

         

         

        坩埚

         

         标配中包含2个标准BN坩埚(两种喷嘴规格:φ1mm圆孔喷嘴和10mm L*1mm W 扁平喷嘴)点击图1.2查看详细结构

         

         对于真空喷铸系统,包含2个石英坩埚(喷嘴规格:φ1mm圆孔喷嘴)点击图3查看详细结构

          

         

         

        图1

                 图2

                    图3

         

        甩带气压调节器及电磁阀

         

         

         

        • 推动熔体流动到喷嘴处的气体气压可通过PID气压调节器进行精确控制,点击左图进行查看

         

        • 进气和卸气电磁阀可用于惰性气体置换以及真空腔体的泄压过程

         

         

         

        甩带铜辊

         

         

        • 铜辊尺寸:φ200mm*40mm W(不带水冷)

         

        • 铜辊转速:0-3000rpm

         

        • 铜辊线速速:0-30m/s可调(最大转速为2850rpm)

         

         

         

        可选

         

        • 设备需配备循环水冷系统,请点击下图进行选购

         

        • 可根据要求定制真空喷铸系统的水冷铜模

              

         

         

         

        产品尺寸

         

        • 620×560×780mm(L×W×H)

         

        • 真空腔体: 300×300×480mm (W×D×H)

         

         

         

        质量认证

         

        • CE认证

         

        • 如您另外付费,我们可保证单台设备通过NRTL认证

         

        质保期

        • 一年保质期,终生维护

        应用实例