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        • 产品名称: 五靶头等离子射频磁控溅射仪--VTC-5RF(针对于MGI薄膜研究)
        • 产品提示: 图片及参数仅供参考,详情请致电公司销售。
        • 产品型号:

        下载附件:

           VTC-5RF是一款5靶头的等离子射频磁控溅射仪,针对于高通量MGI(材料基因组计划)薄膜的研究。特别适合用于探索固态电解质材料,通过5种元素,按16种不同配比组合。

         

             免责声明:本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等)仅供参考。可能由于更新不及时和网站不可预知的BUG造成数据与实物的偏差。如果您对参数有异议,或者想了解产品详细信息,请与本公司销售人员联系。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知,请您见谅。

         

        技术参数

         

         

         

         

        概念


        • 5个溅射头安装5种不同材料

         

         

        • 通过不同的溅射时间,5种材料可以溅射出不同组分的产物

         

         

        • 选择5个等离子射频电源,可在同一时间溅射5种材料

         

         

        • 真空腔体中安装有旋转样品台,可以制作16个样品

         

         

        电源

        单相220 VAC, 50 / 60 Hz

         

         

         

         

        射频电源

         


        • 一个13.5MHz,300W自动匹配的射频电源安装在仪器上,并与靶头相连接

         

         

        • 一个旋转开关可一次激活一个溅射头。溅射头可以在真空或等离子体环境中自动切换

         

         

        • 可选购多个射频电源,同一时间溅射多个靶材。

         

         

        • 所有的溅射参数,都可由电脑设置

         

         

         

        直流电源(可选)


        • 可选购直流电源,来溅射金属靶材

         

         

        • 可配置5个直流或射频电源,来同时溅射5中靶材

         

         

         

         

         

         

         

        磁控溅射头

         


        • 5个1英寸的磁控溅射头,带有水冷夹层

         

         

        • 可在本公司额外购买射频线

         

         

        • 电动挡板安装在溅射腔体内

         

         

        • 设备中配有一循环水冷机,水流量为10L/min

         

         

        •  (1)  (2) (3) (4)

         

         

         

         

         

         

        溅射靶材




        • 所要求靶材尺寸:直径为25.4mm,最大厚度3mm

         

         

        • 溅射距离: 50 – 80 mm(可调)

         

         

        • 溅射角度: 0 – 25°(可调)

         

         

        • 配有铜靶和 Al2O3 靶,用于样品测试用

         

         

        • 可在本公司购买各种靶材

         

         

        • 实验时,需要将靶材和铜片粘合,可通过导电银浆粘合(可在本公司购买导电银浆)

         

         

         

         

         

         

        真空腔体

         


        • 真空腔体采用304不锈钢制作

         

         

        • 腔体内部尺寸:  470mm L×445mm D×522mm H  (~ 105 L)

         

         

        • 铰链式腔门,直径为Φ380mm,上面安装有Φ150mm的玻璃窗口

         

         

        • 真空度: 4E-5 torr (采用分子泵)

         

         

         

         

         

        样品台


        • 直径为150mm的样品台,上面覆盖一旋转台,带有10mm的孔洞,每次露出一个样品接收溅射成膜。

         

         

        • 样品台尺寸:Φ150mm,可通过程序控制来旋转,可制作16种不同组分的薄膜

         

         

        • 样品台可以加热,最高温度可达600℃

         

         

        真空泵


        • 设备中配有一小型涡旋分子泵

         

         

        • 真空泵接口为KF40

         

        石英振荡测厚仪(可选)

         

         

         

        可选购精密石英振荡测厚仪,安装在真空腔体内,实时测量薄膜的厚度,精确度为0.1 Å(需水冷)

        净重

        60kg

        质量认证

        CE认证

        质保

        一年质保期,终生维护

         

         

         

         

         

         

         

         

         

         

         

         

         

        应用注意事项


        • 此款设备设置主要是在单晶基片上制作氧化物薄膜,所以不需要高真空的环境

         

         

        • 所用气瓶上必须安装减压阀(可在本公司购买),所用Ar气纯度为5N

         

         

        • 为了得到较好质量的薄膜,可以对基片进行清洗

         

         

        • 用超声波清洗机,用丙酮或乙醇作为清洗介质,清除基片表面的油脂,然后在N2气或真空环境下对基片干燥

         

         

        • 等离子清洗机,可使基片表面粗糙化,改变基片表面化学活性,清除表面污染物

         

         

        • 可在基片表面镀上缓冲层,如Cr, Ti, Mo, Ta,,可改善金属或合金膜的粘附性

         

         

        • 溅射一些非导电靶材,其靶材背后必须附上铜垫片

         

         

        • 本公司实验室成功地在Al2O3基片上成功生长出ZnO外延膜

         

         

        • 因为溅射头连接着高电压,所以用户在放入样品或更换靶材时,必须切断电源

         

         

        • 不可用自来水作为冷却水,以防水垢堵塞水管。应该用等离子水,或专用冷却介质

         

         

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