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        • 产品名称: 1200℃多坩埚依次移动型管式炉--OTF-1200X-II-ZL
        • 产品提示: 图片及数据仅供参考,具体请致电销售热线
        • 产品型号:

        下载附件:

            OTF-1200X-II-ZL是一款炉管可在炉管内部移动的(在真空气氛保护环境下移动)管式炉,最多可依次移动4个坩埚。特殊的坩埚推送机构,可将坩埚在炉管内推出后再拉回,让坩埚能做往返移动。坩埚移动位置&炉体的温度控制都采用一触摸屏控制。此款设备可进行物理化学混合沉积(HPCVD),快速热蒸发(RTE)等实验,特别适合制备多层二维晶体材料。

         

        技术参数

        开启式管式炉

        • 双温区管式炉:两个独立的温控系统分别独立控制两个温区
        • 加热区长度:温区1:200mm, 温区2:200mm
        • 炉管材料:高纯石英
        • 炉管尺寸:外径: 60 ×内径: 54×长: 760 mm
        • 温度曲线图(两个温区设置在800℃时所测,仅供参考)(可点击图片查看详细资料))
        • 最高工作温度:1200℃(<1hr)
        • 连续工作温度:1100℃
        • 控温精度:+/-1
        •   

        真空密封

        • 配有不锈钢密封法兰,上面安装有不锈钢截止阀和机械压力表
        • 进气端法兰接口为Φ6.35卡套接头,出气端法兰接口为KF25接口
        • 法兰密封圈采用水冷却,使用时需要通入冷却水,可在本公司选购循环水冷机
        • 真空度:10E-2 torr(采用机械泵),10-E5 torr(采用分子泵)
        •   

        坩埚移动机构(转轮式法兰)

        • 一根铠装热电偶通过左端法兰通入到炉管内部,并与坩埚相连接(图1)
        • 通过步进电机驱动使坩埚移动,并和热电偶和坩埚一起移动,实时监测样品的温度
        • 进气端法兰转轮式法兰(图2)
        • 可同时在转轮系统中放入4个坩埚,可交替将放入4种材料的石英坩埚自动送入到石英管中(可在真空状态或气氛保护状态进行运作)
        • 图片1 图片2    

         

        坩埚移动控制

        • 通过一步进电机控制坩埚移动的速度和位置
        • 可控制坩埚最小移动位移为1mm
        • 坩埚最大移动距离为200mm
        •   

        防腐型数显真空计

         

        • 配有一数显防腐型真空计
        • 当气压在10mbar以上时,不需因测量气体种类不同而进行系数转换
        • 对于气体的压力检测具有较高的精确度和重复性
        • 因为传感器上镀有涂层,所以具有较好的抗腐蚀性
        • 测量范围:3.8x10-5 -1125 Torr

        混气系统

        • 此套设备中配有一2路混气系统
        • 最大输出功率:18W
        • 工作温度:5-45℃
        • 最大气压:3×106Pa
        • 精度:±1%FS
        • 质量流量计量程:
        • 1:0-100sccm
        • 2:1-199sccm
        • 可根据客户要求选购1-5路供气系统

        产品尺寸

        2400L×600W×1300mm H
            

        质保

        一年质保期,终生维护(不包含炉管,密封圈和加热元件)

        质量认证

        使用注意事项

        •  
        • 炉管内气压不可高于0.02MPa
        • 由于气瓶内部气压较高,所以向炉管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀,建议在本公司选购减压阀,本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加精确安全
        • 当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压相当,保持在常压状态
        • 进入炉管的气体流量需小于200SCCM,以避免冷的大气流对加热石英管的冲击
        • 石英管的长时间使用温度<1100℃
        • 对于样品加热的实验,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若气压表示数大于0.02MPa,必须立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉 管破裂,法兰飞出等)

        应用注意事项

        • 此款管式炉具有多种用途
        • 热蒸发:把蒸发料放在坩埚里,通过移动坩埚来精确找到所需要的蒸发温度
        • HPCVD:和热蒸发相似,可通入反应气体与蒸发的物料反应后再沉积
        • 可用于制作多层二维晶体
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