中美合资 合肥科晶材料技术有限公司-管式炉,马弗炉,高温炉,单晶基片,靶材,箱式炉,气氛炉,CVD管式炉,PECVD系统....


 
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        • 产品名称: 氢爆炉--OTF-1200X-V-H4
        • 产品提示: 图片及数据仅供参考,具体请致电销售热线
        • 产品型号:

        下载附件:

             OTF-1200X-V-H4是一款UL/TUV标准的氢气管式炉,主要设计用于对磁性材料进行氢爆处理或对材料在氢气环境下进行热处理。此款管式炉有5个温区(分别采用独立的的温控系统控制),炉管材料为310不锈钢,尺寸为Φ100mm*1500mm.设备中配有一3M的氢气探测器,当探测到有氢气泄露,将自动关闭氢气进气阀和出气阀,以达到绝对安全。

         

        技术参数

        管式炉特征

        • 采用双层壳体结构,并带有风冷系统,确保炉体温度小于60
        • 采用氧化铝纤维作为炉膛材料(表面涂有高温氧化铝涂层,可提高炉腔加热效率和延长炉膛使用寿命)
        • 加热元件为掺钼铁铬铝合金
        • 配有一Φ100mm*1500mmL310不锈钢管,最高可承受温度为1000
        • 设有5个温区,总温区长度为1200mm
        • 炉体设计为开启式,以方便更换炉管

        功率和电压

         

        • AC208-240V  单相 50/60Hz
        • 最大功率10kw

        炉管

        • 炉管材料:不锈钢SS310A
        • 尺寸:115mm OD x 100 mm ID x 1500 mm L
        • 炉管和所能承受的压力和对应的工作温度
        • 4MPa

          500

          2.7MPa

          700

          0.6MPa

          800

          0.3MPa

          900

          0.1MPa

          1000

        加热区长度

        • 5个温区,每个温区长度为200mm,总温区长度为1000mm
        • 恒温区长度:600mm(±5℃,每个温区设置同样的温度注:由于测量手段及外部环境的影响,测量结果可能会有偏差,此参数仅供参考不作为该设备的技术指标。您购买产品需要准确的恒温区数据,请与我公司销售人员联系 

        工作温度

        • 连续工作温度:900
        • 最高工作温度:1000℃(小于1个小时)
        • 升温速率:10/min

        密封法兰

        • 两个CF法兰
        • 仪器中包含2片无氧铜垫圈(点击图片查看详细资料)

        温控系统

        • 控制柜与炉体分开,采用触摸屏来操作来控制5个温区,每个温区有独立的控制通道。
        • 每个控制通道可设置30段升降温程序
        • 设有超温和断偶保护
        • 控温精度为:+/- 1 ºC
        • 热电偶:采用ΩK型铠装热电偶
        • 控制面板上安装有RS485接口,可连接电脑将数据导出
        •   

        流量计和真空泵

        • 炉体上安装有两个流量计((N2: 0~3.5L/min, H2: 0~3.5L/min),一个控制氮气,一个控制氢气
        • 可在本公司选购真空泵
        •  

        氢气燃烧系统

        • 左端法兰上安装有一自动氢气点火装置(带有紫外验火功能),确保排出的氢气燃烧处理掉,若火焰熄灭,控制系统将关闭进气阀和出气阀。
        • 警告:实验室内需安装一氢气探测器,当氢气有泄露时,探测器会自动报警,可在本公司购买3M的氢气探测器

        可选

        可根据客户要求,设备加热时炉管可以转动(需支付额外的费用)

        质保

        一年质保期(不包括炉管,密封圈和加热元件)

        质量认证

        设备尺寸

        L2000mm x W500mm x H950mm

        产品重量

        500kg