中美合资 合肥科晶材料技术有限公司-管式炉,马弗炉,高温炉,单晶基片,靶材,箱式炉,气氛炉,CVD管式炉,PECVD系统....


 
科晶新品
根据应用寻找设备
根据应用寻找晶体
-- A-Z晶体及材料 --
A-Z系列晶体
A-Z系列靶材
A-Z系列蒸发料
A-Z系列薄膜
A-Z系列金属丝箔 
A-Z系列粉料 
陶瓷玻璃及其他基片
晶体包装材料及工具
功能纳米材料
-- 加热炉系列 --
箱式炉
管式炉
混合箱/管式炉
高通量炉
CVD系统
高温高压炉
氢气炉
RTP快速退火炉
熔炼/铸造系列
晶体生长炉
工业炉
加热烘箱
加热炉配件及耗材
-- 薄膜制备设备 --
提拉涂覆设备
丝印涂覆设备
流延涂覆设备
旋转涂覆设备
等离子镀膜设备
蒸发镀膜设备
化学气相沉积设备
静电纺丝、热喷涂设备
小型冷喷涂设备
薄膜检测设备
-- 样品处理设备 --
混料、球磨系列设备
实验室压片机
辊压机
清洗机设备
切割设备
研磨抛光设备
-- 电池研发全套设备 --
扣式电池研发设备
柱状电池研发设备
软包电池研发设备
锂空电池研发设备
钙钛矿电池研发设备
固态锂离子电池研发设备
液流电池研发设备
燃料电池研发设备
电池测试设备
电池研发材料
-- 其他实验室设备 --
供气系统
真空系统
手套箱
检测设备
水冷机
电子天平
配件耗材
真空储藏箱

        • 产品名称: 1200℃三温区开启式立式管式炉--OTF-1200X-III-VT
        • 产品提示: 图片及数据仅供参考,具体请致电销售热线
        • 产品型号:

        下载附件:

           OTF-1200X-III-VT是一款三温区的立式管式炉,最高温度可达到1200℃。此款管式炉不仅可在真空或气氛保护环境下对样品进行快速地热处理和淬火,同时也可用PVD、CSS和CVD方法来制作薄膜。三个温区分别由三个独立的温控系统来控制,每个温区可设置30段升降温程序,其控温精度为+/-1炉体下端安装有一移动炉架,以便于设备移动。

         

        技术参数

        炉体结构

        • 采用双层壳体结构,并带有风冷系统,使得炉体表面温度小于<60℃
        • 采用高纯氧化铝纤维作为炉膛材料,并且表面涂有高温氧化铝涂层(可提高加热效率和延长炉膛使用寿命)
        • 炉体下端安装有一移动炉架,以便于设备移动(点击图片查看详细资料)
        •     

        最大功率

        7KW(需要30A的空气开关)

        工作电压

        AC 208-240V 单相, 50/60 Hz

        最高工作温度

        1200℃(<1 hr)

        连续工作温度

        1100℃

        最高加热速率

        ≤20℃

        控温精度

        ±1℃

        炉管尺寸和材料

        • 高纯石英管
        • 尺寸:OD50mm×ID44mm×L1200mm
                OD60mm×ID54mm×L1200mm
                OD80mm×ID74mm×L1200mm

        加热区长度

        • 顶部加热区:135mm
        • 中间加热区: 260mm
        • 底部加热区:135mm
        • 总温区长度:530mm

        恒温区长度

        400mm(+/-1),三个温区设置同样的温度 注:由于测量手段及外部环境的影响,测量结果可能会有偏差,此参数仅供参考不作为该设备的技术指标。您购买产品需要准确的恒温区数据,请与我公司销售人员联系 

        温控系统

        • 三个温区分别有三个独立的温控系统控制
        • 采用PID方式调节温度,都可设置30段升降温程序
        • 设有超温和段偶(热电偶)保护系统
        • 可选购控温模块,可实现用电脑设置和显示温度程序
        • 控温仪表操作视频
        •   

        热电偶

        采用K型omega铠装热电偶

        密封法兰

        配有一套不锈钢密封法兰,并且上面安装有机械压力表和不锈钢截止阀
             

        真空度

        • 10E-2 Torr (用机械泵)
        • 10E-5 Torr (用分子泵)

        加热元件

        掺钼铁铬铝合金(表面涂有氧化锆涂层,可延长其使用寿命)

        设备尺寸

        700mm(L) x 700mm(W) x 1680mm(H)
            

        质量

        约115KG

        质保

        一年质保期,终身维护(不包含炉管、密封圈和加热元件)

        质量认证

        应用(我们可根据客户的要求来制作法兰,来达到实验要求)

        • 参照图片,了解怎样用立式炉对样品进行淬火
        • 图1:用传统的方法将悬挂丝剪断,样品坠落
        • 图2:使用电磁阀使样品坠落
        •    
            (1)         (2)
        • 可将此立式炉改造为HPCVD(混合物理化学气相沉积实验炉)
        • 也可用此设备来对样品进行焊接
        •  
        使用注意事项
        • 炉管内气压不可高于0.02MPa
        • 由于气瓶内部气压较高,所以向炉管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀,建议在本公司选购减压阀,本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加精确安全
        • 当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压相当,保持在常压状态
        • 进入炉管的气体流量需小于200SCCM,以避免冷的大气流对加热石英管的冲击
        • 石英管的长时间使用温度<1100℃
        • 对于样品加热的实验,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若气压表示数大于0.02MPa,必须立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉 管破裂,法兰飞出等)