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        • 产品名称: 三靶射频磁控溅射镀膜仪--VTC-3RF
        • 产品提示: 图片及数据仅供参考,具体请致电销售热线
        • 产品型号:

        下载附件:

            VTC-3RF是一款小型台式3靶等离子溅射仪(射频磁控型),配有三个1英寸的磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。

         

        展示视频

         技术参数

        输入电源

        • 220VAC 50/60Hz, 单相
        • 800W  (包括真空泵)

        等离子源

        • 配有一13.5MHz,100W的射频电源(采用手动匹配)
        • 可选配300W射频电源(自动匹配)
        • 注意:100W手动调节的RF(射频)电源价格较低,但是每一次对于不同的靶材,都需要手动设置参数才能产生等离子体,比较耗费时间。300W自动匹配的RF(射频)电源,价格较昂贵,但比较节约时间(点击图片查看详细资料)

        磁控溅射头

        • 三个1英寸磁控溅射头(带有水冷夹层),采用快速接头与真空腔体相连接
        • 靶材尺寸: 直径为25.4mm,最大厚度3mm
        • 一个快速挡板安装在法兰上
        • 溅射头所需冷却水:流速10L/min(仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机)
           

        真空腔体

        • 真空腔体:256mm OD x 250mm ID x  276mm H采用高纯石英制作
        • 密封法兰:直径为274mm .  采用金属铝制作,采用硅胶密封圈密封
        • 一个不锈钢网罩住整个石英腔体,以屏蔽等离子体(如下图)
        • 真空度:<1.0×10-2 Torr (采用双极旋片真空泵),<5×10-5 torr (采涡旋分子泵)
            

        载样台

        • 载样台可旋转(为了制膜更加均匀)并可加热
        • 载样台尺寸:直径50mm (最大可放置2英寸的基片)
        • 旋转速度:0 - 20 rpm
        • 样品台的最高加热温度为700℃(短期使用,恒温不超过1小时),长期使用温度500℃
        • 控温精度+/- 10℃

        真空泵(选配)

        • 我公司有多种真空泵可选,请点击图片,或是致电我公司销售

        薄膜测厚仪(可选)             

        • 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10 Å  
        • LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据
           

        质保和质量认证

        • 一年质保期,终生维护
        • CE认证

        外形尺寸

            

        使用注意事项

        • 这款1英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜,所以并不需要太高的真空度
        • 为了较好地排出真空腔体中的氧气,建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗2-3次,可有效减少真空腔体中的氧含量
        • 请用纯度大于5NAr来进行等离子溅射,甚至5NAr中也含有10- 100 ppm的氧和水,所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后,再导入到真空腔体内
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