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        • 产品名称: 康宁7980上镀Si3N4
        • 产品提示: 图片及数据仅供参考,具体请致电销售热线
        • 产品型号:

        下载附件:

         

        产品名称:

        康宁7980上镀Si3N4Silicon Nitride Film (LPCVD) on Corning 7980

         

        产品简介:

        The Si3N4 film may have stressed induced micro-cracking resulted from the large difference of thermal expansion coefficient between Si3N4 and SiO2 fused silica

         

        技术参数:

        Si3N4薄膜:

        镀膜方法:

        low stress LPCVD method低压力化学气相沉积法

        膜层厚度:

        1.3um  +/- 5%

        镀膜情况: 双面镀膜

        UV级石英 UV Grade Fused Silica (Corning 0F 7980 HPFS)

        常规尺寸:

        dia100.0 (±0.20) mm x 0.5 (± 0.10) mm

        边缘:

        CNC Ground

        表面质量:

        60/40 

        失效区域:

         2.0 mm border

        TTV:

        < 20 microns

        抛光情况:

        双面抛光(60/40)

         

        产品规格:

        dia100x0.5mm;10x5x0.5mm10x10x0.5mm

        标准包装:

        1000级超净室100级超净袋或单片盒包装

         

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