中美合资 合肥科晶材料技术有限公司-管式炉,马弗炉,高温炉,单晶基片,靶材,箱式炉,气氛炉,CVD管式炉,PECVD系统....


 
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        • 产品名称: 三靶磁控溅射仪--VTC-600-3HD
        • 产品提示: 图片及数据仅供参考,具体请致电销售热线
        • 产品型号:

        下载附件:

             VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是最新研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。
         

        操作视频

         

        技术参数

        主要特点

        • 配置三个靶枪,一个为弱磁靶用于非导电靶材的溅射镀膜,两个为强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。(靶枪可以根据客户需要任意调换)
        • 可制备多种薄膜,应用广泛。
        • 体积小,操作简便。
        • 整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整购买需求。
        • 可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪。

        技术参数

        • 电源电压:220V   50Hz
        • 总功率:2.5KW
        • 极限真空度:< 1E-6mbar(配合本公司设备使用可达到1E-5mbar)
        • 工作温度:室温-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)
        • 靶枪数量:3个
        • 靶枪冷却方式:水冷
        • 靶材尺寸:Φ2″,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)
        • 直流溅射功率:500W(可选)
        • 射频溅射功率:300W/500W(可选)
        • 载样台:Φ140mm
        • 载样台转速:1-20rpm内可调
        • 保护气体:Ar、N2等惰性气体
        • 进气气路:质量流量计控制2路进气,每个流量为100SCCM

        产品规格

        • 主机尺寸:500mm×560mm×660mm,
        • 整机尺寸:1300mm×660mm×1200mm;
        • 重量:160kg

        标准配件

        1

        直流电源控制系统

        1套

        2

        射频电源控制系统

        1套

        3

        膜厚监测仪系统

        1套

        4

        真空泵(标配)

        设备标配一台GZK-103D分子泵,如需选购其他真空泵,请点击图片,或是致电我公司销售

        5

        冷水机

        1台

        6

        冷却水管(Φ6mm)

        4根

        7

        靶材(不锈钢靶、陶瓷靶)

        各1件

        可选配件

        金、铟、银、白金等各种靶材