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        • 产品名称: 300W射频等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2RF
        • 产品提示: 图片及数据仅供参考,具体请致电销售热线
        • 产品型号:

        下载附件:

           VTC-2RF是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如300W13.5MHz)的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款物美价廉的实验帮手。

         

        我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜
          


        技术参数

        名称 300W射频等离子磁控溅射镀膜仪

         

         

         

        视频

         
                 操作视频

         

         

         

        输入电源


        • 220VAC 50/60Hz, 单相

         

        • 射频功率300W 

         

         

         

         

        等离子源

        一个300W13.5MHz的射频电源安装在移动柜内

                 

        (点击图片查看详细资料)

         

         

         

         

         

         

         

        磁控溅射头


        • 一个 2英寸磁控溅射头(带有水冷夹层),采用快速接头与真空腔体相连接

        • 靶材尺寸直径为50mm,最大厚度6.35mm

        • 一个快速挡板安装在法兰上(手动操作,见图左3)

        • 溅射头所需冷却水:流速10L/min(仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机)

         

         

         

         

         

         

         

         

        真空腔体


        • 真空腔体:160 mm OD x 150 mm ID x  250mm H,采用高纯石英制作

        • 密封法兰:直径为165 mm .  采用金属铝制作,采用硅胶密封圈密封

        • 一个不锈钢网罩住整个石英腔体,以屏蔽等离子体

        • 真空度:10-3 Torr (采用双极旋片真空泵)


                  10-5 torr (采涡旋分子泵)


         

         

         

         

         

         

         

        载样台


        • 载样台可旋转(为了制膜更加均匀)并可加热

        • 载样台尺寸:直径50mm (最大可放置2英寸的基片)

        • 旋转速度:1 - 20 rpm

        • 样品的最高加热温度为700℃,(短期使用,恒温不超过1小时),长期使用温度500℃

        • 控温精度+/- 10

         

         

         

         

         

         

        真空泵(选配)

         

        我公司有多种真空泵可选,请点击图片,或是致电我公司销售

         

         

         

         

         

         

        薄膜测厚仪


        • 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监控薄膜的厚度,分辨率为0.10 Å  

        • LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据

         

         

         

         

        外形尺寸

                

         

         

        质保和质量认证


        • 一年质保期,终生维护

        • CE认证

         

         

         

         

         

         

         

        使用注意事项


        • 这款2英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜,所以并不需要太高的真空度

        • 为了较好地排出真空腔体中的氧气,建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗,可有效减少真空腔体中的氧含量

        • 请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射,甚至5NAr中也含有10- 100 ppm的氧和水,所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后,再导入到真空腔体内