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        • 产品名称: 1英寸高真空磁控溅射头--HVMSS-SPC-1-LD
        • 产品提示: 图片及数据仅供参考,具体请致电销售热线
        • 产品型号:

        下载附件:

            HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控溅射头,可安装直径为1英寸的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配,以至于可以溅射各种靶材(如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等)。而且高真空的结构设计,可提高镀膜质量。

         

        技术参数

        特点

        • 采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作
        • 采用电磁场的有元计算法来设计永磁体,以得到较高的磁场强度和均强场分布
        • 磁体表面涂有一层保护层,以防止冷却水的腐蚀,延长其使用寿命
        • 标准的HN型接头,可与DCRF电源相匹配
        • 安装是采用标准真空接头,便于操作
        • 更换靶材较为简单,无需调整溅射头的高度
        • 配有一块铜靶

        溅射头


        (点击图片查看详细资料)

        • 溅射头的直径:46.3mm
        • 所用靶的直径:1.0 ± 0.02"(25.4mm)
        • 靶材的最大厚度: 1/8" (3mm) 
        • 磁环:NdFeB稀土永磁铁      
        • 杆的直径:      3/4" O.D.

        所需功率

        DC (最大) 250 W

        RF (最大)100 W

        最大阴极溅射电流

        3A

        阴极溅射电流

        200 - 1,000 V

        可选压力范围

        ~1 mTorr 1 Torr

        溅射厚度均匀性图

         

        • 注意:此图是采用磁控溅射得的到一个200nm的薄膜,所用靶材为1英寸的铜靶。薄膜是沉积在氧化的硅片上,实验参数为:
        • 功率:直流150W
        • 真空环境:10mTorr(Ar)
        • 靶材与基片的距离:75mm

        水冷却

        • 所需水流量: 1/2 GPM
        • 进水温度:<20
        • 水管接头:0.25" O.D快插头

        接头

        • 电路连接接头:标准的HN型接头,可与DCRF电源相匹配
        • 本公司会赠送一高真空快速接头
        • 此快速接头的内径为0.75",可将溅射头安装在真空腔体上,真空腔体上的安装孔直径为1英寸,真空腔体的壁厚不得大于1英寸
           

         

        产品长度

        14英寸(355.6mm)

        产品重量

        1.36kg

        倾斜装置

        • 溅射头相对于杆最大可倾斜+/- 45
        • 倾斜装置上有刻度线,可观察到靶头倾斜的角度

        可选配件

        • 循环水冷机,流量为16L / min ,水箱容积为6L
        • 本公司可提供各种配件可与HVMSS-SPC-1-LD配套,让客户自己搭建磁控溅射仪

        质保期

        一年质保期终维护

        应用

        • 在真空腔体中HVMSS-SPC-1-LD磁控溅射头可制作各种薄膜,下面是一些应用:
        • 薄膜涂覆
        • 半导体器件
        • 磁记录介质
        • 超导薄膜
        • 量子计算器件
        • MEMS
        • 生物传感器
        • 纳米技术
        • 超晶格
        • 颗粒膜
        • 记忆合金
        • 组合薄膜沉积
        • 光学薄膜