• 产品名称: 桌面式金属甩带炉-VTC-200
  • 产品编号: VTC-200
  • 产品提示: 图片及参数仅供参考,详情请致电公司销售。
  • 产品型号:

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    VTC-200是一款小型桌面式真空金属甩带炉,用于制备非晶态金属材料。在该工艺中,金属锭(<20g)通过感应加热的方式进行熔化,之后利用气流进行推动,通过坩埚底部细孔或扁口形成细流滴落到快速旋转的冷铜辊表面,从而达到快速淬火的效果,得到非晶态金属带片。

特点:

1.不锈钢高真空腔体前置观察窗口

2.涡轮分子泵系统可实现高真空(10-4Pa)

3.进出气口可进行惰性气体置换,从而有效避免样品在熔融甩带过程中的水氧接触反应

4.铜辊转速、感应加热功率、坩埚温度以及熔体推动气流压力可调,从而实现更为精密的甩带工艺控制。

 

     对于高校科研院所对甩带工艺及非晶金属的调控摸索制备,VTC-200是一款理想的实验型设备。

 

       免责声明:本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等)仅供参考。可能由于更新不及时和网站不可预知的BUG造成数据与实物的偏差。如果您对参数有异议,或者想了解产品详细信息,请与本公司销售人员联系。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知,请您见谅。

 

 技术参数

 

 

 

产品特征

 

 

• 小型桌面式设计,可节省实验室空间和能耗

 

• 7KW感应熔炼系统,最高温度可达1700℃

 

• 铜辊:尺寸:φ200mm*40 mm W

       转速:0~30m/s可调

 

• 金属样品重量:5~20g(实验室级别)

 

• 坩埚到铜辊距离:0-10mm(手动调节)

 

• 标配真空喷铸系统,用于金属铸造

  

 

 

 

工作电源

 

• 电压:AC220V,50/60Hz

 

• 功率:7KW(需50A的空气开关)

 

控制系统

• 可通过控制面板对各参数进行调控,包括:温度和感应加热功率控制,铜辊旋转开/关及调速、机械/涡轮泵开/关、进气卸气开/关、甩带开/关。

 

真空腔体

 

 

• 不锈钢真空腔体尺寸:300×300×480mm (W×D×H)

 

 铰链式前门设置有φ120mm石英观察窗口并配备有照明装置,更为直观清晰的观察实验过程

 

• 真空度可达5 x10 E-5 torr (涡轮分子泵系统)

 

• 腔体配备有KF40真空口,本公司有多款真空系统可供选购

     

 

 

 

 

 

感应加热系统

 

• 7KW感应加热系统

 

• 熔炼温度:500-1700℃

 

• 可熔样品量:5-20g

 

• 可选B型热电偶测温系统进行测温(避免与熔体直接接触)

 

 

 

 

坩埚

 

 标配中包含2个标准BN坩埚(两种喷嘴规格:φ1mm圆孔喷嘴和10mm L*1mm W 扁平喷嘴)点击图1.2查看详细结构

 

 对于真空喷铸系统,包含2个石英坩埚(喷嘴规格:φ1mm圆孔喷嘴)点击图3查看详细结构

  

 

 

图1

         图2

            图3

 

甩带气压调节器及电磁阀

 

 

 

• 推动熔体流动到喷嘴处的气体气压可通过PID气压调节器进行精确控制,点击左图进行查看

 

• 进气和卸气电磁阀可用于惰性气体置换以及真空腔体的泄压过程

 

 

 

甩带铜辊

 

 

• 铜辊尺寸:φ200mm*40mm W(不带水冷)

 

• 铜辊转速:0-3000rpm

 

• 铜辊线速速:0-30m/s可调(最大转速为2850rpm)

 

 

 

可选

 

• 设备需配备循环水冷系统,请点击下图进行选购

 

• 可根据要求定制真空喷铸系统的水冷铜模

      

 

 

 

产品尺寸

 

• 620×560×780mm(L×W×H)

 

• 真空腔体: 300×300×480mm (W×D×H)

 

 

 

质量认证

 

• CE认证

 

• 如您另外付费,我们可保证单台设备通过NRTL认证

 

质保期

• 一年保质期,终生维护

应用实例

    

 

 

 

 

 

 

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