• 产品名称: 1200℃多坩埚同时移动型管式炉(可同时移动2个坩埚源)-OTF-1200X-Ⅱ-S2
  • 产品编号: OTF-1200X-Ⅱ-S2
  • 产品提示: 图片及数据仅供参考,具体请致电销售热线
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     OTF-1200X-Ⅱ-S2是一款双温区带有升降双通道进料系统的共蒸发多层沉积管式炉,通过升降双通道进料系统可装载4个不同材料的蒸发坩埚舟,并且可一次同时送入两个蒸发坩埚源进入管式炉中进行共蒸发或反应蒸发。双温区管式炉可以实现快速加热,并且通过对各个温区设置不同的加热温度可以创建不同的温度梯度从而实现蒸发沉积。双通道进料系统可以在程序控制下将2个装载不同蒸发料的坩埚一同推进拉出,实现共蒸发或者反应蒸发,特别适用于多层二维晶体材料的制备。

 

技术参数

管式炉

  • 双温区管式炉:两个独立的温控系统对每个温区进行独立控温
  • 电压:220V AC 50/60Hz
  • 功率:3KW
  • 加热区长度:440mm
  • 恒温区长度:300mm
  • 温度曲线图(两个温区设置在800℃时所测,仅供参考)(可点击图片查看详细资料)
     

  •  
  • 炉管材料:高纯石英管
  • 标配炉管尺寸:Φ100(外)×Φ94(内)×640(长)
  • 最高工作温度:1200℃(<1h)
  • 连续工作温度:1100℃
  • 控温精度:±1℃
  • 推荐升温速率:10℃/min

坩埚推送机构(升降双通道进料系统)

  • 一根铠装热电偶通过左端法兰通入炉管内部,并与坩埚相连接,实现温度的实时监测(如图1)
  • 升降双通道进料系统放置在一中空的真空腔体中,上方采用不锈钢真空法兰进行密封,两端同样采用不锈钢真空法兰与坩埚推进装置及管式炉进行连接,保证进料在真空状态或者气氛保护状态下进行运作(图2)
  • 进料系统真空腔体右端与管式炉连接法兰处安装有2个独立小石英管(图3)
  • 在升降双通道进料系统中最多可放入4个坩埚(图4),利用推送系统可交替将4个不同蒸发源单个依次送入石英管中,也可将放入不同材料的2个坩埚蒸发源一同送入,分别精确的推入两个独立的小石英管中(图5),找到所需的蒸发温度处进行共蒸发或者反应蒸发,保证实验的重复性以及稳定性(图6)
     
  •      
  •       图1             图2            图3             图4              图5            图6

坩埚推送控制系统

  • 采用PLC触摸屏控制
  • 通过一步进电机控制坩埚的移动速度和位置,进样位置和速度可调
  • 可控制坩埚最小移动位移为1mm
  • 坩埚最大移动距离为200mm 
     
  •  

真空表

机械压力表+数显压力表

真空泵
 

  • 真空度:10E-2 torr(采用机械泵),10-E5 torr(采用分子泵)
     

混气系统
 

  • 此套设备中配有一2路混气系统
  • 最大输出功率:18W
  • 工作温度:5-45℃
  • 精度:±1%FS
  • 质量流量计量程:1:0-100sccm  2:1-199sccm
  • 可根据客户要求选购1-5路供气系统
     

水冷系统
 

  • 标配一16L循环水冷系统
     

尺寸

  • 2600mm(L) x 600mm(W) x 900mm(H)  
     

质保期

一年质保期,终生维护

质量认证

使用注意事项

  • 炉管内气压不可高于0.02MPa
  • 由于气瓶内部气压较高,所以向炉管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀,建议在本公司选购减压阀,本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加精确安全
  • 当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压相当,保持在常压状态
  • 进入炉管的气体流量需小于200SCCM,以避免冷的大气流对加热石英管的冲击
  • 石英管的长时间使用温度<1100℃
  • 对于样品加热的实验,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若气压表示数大于0.02MPa,必须立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉管破裂,法兰飞出等)

应用举例

此款管式炉具有多种用途:

  • 热蒸发:将蒸发料放入坩埚中,通过移动坩埚来精确找到所需蒸发温度
  • HPCVD:通入反应气体实现反应蒸发沉积
  • 共蒸发沉积或反应蒸发沉积:利用独特的双通道进料装置可以实现两蒸发源的同时送入,实现共蒸发沉积或反应蒸发沉积
  • 多层二维晶体:此套设备可以实现多层二维晶体的制备(硒化物硫化物等),操作方便简单,实验更具精确性、重复性。

 

 

 

 

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