• 产品名称: 多靶激光溅射混合雾化沉积管式炉--OTF-1200X-PLD
  • 产品编号: OTF-1200X-PLD
  • 产品提示: 图片及数据仅供参考,具体请致电销售热线
  • 产品型号:

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     OTF-1200X-PLD是一款多靶激光溅射混合雾化沉积管式炉,此款设备主要包括混气装置,加热炉,基片加热腔体、靶材溅射腔体和气压控制系统组成。可与准分子激光器配合,进行脉冲激光蒸发镀膜,而且靶材溅射腔体内可安装3块靶材,可依次对3中不同靶材进行激光脉冲蒸发。此款设备特别适合制作多元化合物薄膜。

 

技术参数

产品特点

  • 可与准分子激光器配合进行PLD制膜
  • 腔体内部可安装多块靶材,进行多靶激光蒸发
  • 腔体内部靶材可旋转
  • 可对基片加热(最高温度可达1200℃)

加热炉(对基片加热)

  • 双层壳体结构,并带有风冷系统,使壳体表面温度小于60℃
  • 加热元件:掺钼铁铬铝合金(表面涂有氧化锆涂层)
  • 最高工作温度:1200℃
  • 最大功率:1.2KW

腔体

  • 基片加热腔体为高纯石英材料
  • 靶材蒸发腔体为不锈钢材料
  • 靶材蒸发腔体内可安装3块靶材,并且靶材可旋转(转速:0-30rmp)
  • 两个腔体通过卡箍式法兰连接(可点击图片查看详细资料)
  •  

真空系统(选配)

  • 10-2Torr(采用机械泵)
  • 10-5Torr(采用涡旋分子泵)
  • 可在本公司购买各种真空泵

窗口

 

  • 采用蓝宝石(Al2O3)
  • 尺寸:Φ25*0.5mm
  • 允许激光的入射角度为30°-90°
  •  
压力控制系统
  • 一套压力控制系统安装在仪器的腔体上,可保证腔体内部的气压恒定
  • 与混气系统配合使用,可保证蒸发腔体中各种气体的分压恒定
  •   

混气系统

  • 配有2路质量流量计混合系统
  • 混气罐尺寸:Φ80X120mm
  • 最大气压:3×106Pa
  • 精度:±1%FS
  • 质量流量计量程:1:1-199sccm
                   2:1-499sccm
  • 可按客户要求订制其他量程的质量流量计
  • 可选购3-5路混气系统

等离子射频电源(可选购)

  • 可在设备上安装300W等离子射频电源,使腔体内的气体等离子化,达到等离子化激光蒸发反应镀膜
  •  

质保期

一年质保期,终生维护(不包括密封圈、石英腔体和加热元件)

仪器尺寸

1300mm*1260mm*820mm

质量认证

 

 

 

 

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