• 产品名称: 小型紫外臭氧清洗机--PCE-44-LD
  • 产品编号: PCE-44-LD
  • 产品提示: 图片及数据仅供参考,具体请致电销售热线
  • 产品型号: PCE-44-LD

下载附件:

     PCE-44-LD是一款小型紫外臭氧清洗机,可用于清洗各种单晶基片,以保证更好的成膜质量。同时也可去除光刻胶、改善材料表面润湿性、清洗SEM和TEM样品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段,特别适合清除一些有机化合物。紫外灯主要发出两种波长的光:185nm和254nm.其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭氧,254nm可以破坏化合物中的键(特别是碳碳键)。所以这两种波长的光组合可有效地清除有机化合物。

 

    免责声明:本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等)仅供参考。可能由于更新不及时和网站不可预知的BUG造成数据与实物的偏差。如果您对参数有异议,或者想了解产品详细信息,请与本公司销售人员联系。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知,请您见谅。


技术参数

名称

小型紫外臭氧清洗机--PCE-44-LD

 

 

 

视频

         操作视频

电源

AC 208~240V,单相 50/60Hz

 

 

 

紫外灯

 

·可发出双波长的水银灯

 

·功率:55W

 

·发出光的波长:254nm 和185nm

 

·使用寿命:2500 小时(可更换)

 

·照射区域:100 x 100 mm

 

·光照强度:4.6 mw/cm2

 

 

腔体 & 样品台

 

·抽拉盒尺寸: 133 x 133x 25mm

 

·支架尺寸: 100mmx 100mm x 19

 

·抽屉底座与紫外灯的距离:27mm

 

·样品台与紫外灯的距离:8mm

 

 

 

 

 

 

 

 

 

应用

 

·去除分子级别的污染物

 

·紫外光固化粘合剂

 

·紫外光催化

 

·氧化PDMS

 

·表面消毒

 

·刻蚀

 

·清洗MEMS 器件

 

·清洗各种基片,如Si, Ge, GaAs和各种氧化物单晶基片

 

 

 

 

 

 

环境要求

 

·仅室内使用; 海拔高度在5,562英尺以内

 

·温度范围41-104华氏度

 

·最大相对湿度80%,最高87华氏度,104华氏度线性降至50%相对湿度

 

·主电源波动不超过标称电压的10%

 

·污染等级2; 臭氧水平(环境)测量<45 ppb

 

外形尺寸

240x 200x 152mm

净重

4Kg

认证

CE认证

 

 

 

 

质保期

 

一年保修,终身技术支持。

 

特别提示:1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。

2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。

 

点击查看售后服务承诺书。

 

 

 

免责声明

 

本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等)仅供参考。可能由于更新不及时和网站不可预知的BUG造成数据与实物的偏差。如果您对参数有异议,或者想了解产品详细信息,请与本公司销售人员联系。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知,请您见谅。

 

 

 

 

 

1

 

 

设备产品


加热炉系列
工业炉系列

 

晶体产品


科晶新晶体
A-Z系列

 

走进科晶


公司简介
企业文化

 

新闻中心


公司新闻
最新公告

 

全球代理


营销网络
全球代理
  

 

专业支持


科晶实验室
专业支持

 

联系我们


联系我们
在线留言

 

欢迎关注公众号

 

欢迎查看诚信档案

 
 

阿里巴巴集团  |  阿里巴巴  |  淘宝网  |  天猫  |  百度一下

 合肥科晶材料技术有限公司 版权所有  皖ICP备05009081号