• 产品名称: 三靶1英寸射频磁控溅射镀膜仪--VTC-3RF
  • 产品编号: 2-1-0-07
  • 产品提示: 图片及数据仅供参考,具体请致电销售热线。
  • 产品型号: VTC-3RF

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      VTC-3RF是一款小型台式3靶等离子溅射仪(射频磁控型),配有三个1英寸的磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。

 

 

     免责声明:本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等)仅供参考。可能由于更新不及时和网站不可预知的BUG造成数据与实物的偏差。如果您对参数有异议,或者想了解产品详细信息,请与本公司销售人员联系。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知,请您见谅。

         

  

技术参数

设备名称

三靶1英寸射频磁控溅射镀膜仪--VTC-3RF

 

 

 

 

主要参数

 

输入电源:220VAC 50 Hz 整机功率:800W(包括真空泵)

 

最大使用功率:100W

 

靶头数量:3个1英寸磁控靶头

 

样品台加热温度:500

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

射频电源

 

设备有两种射频电源可选分别为:(图一、二)

 

l300W自动匹配射频电源

 

l100W的手动匹配射频电源


注意:

l1英寸靶头最大使用功率为100W

 

l自动射频电源的最大功率为300W,但是受靶头限制,最大功率只能使用100W

 

l此设备支持多种DIY方案,购买前请务必与我公司销售联系,同时欢迎您带料到科晶实验室实验

 
         图一                图二

            

溅射腔体

 

l采用石英腔体,尺寸:256mm OD x 250mm ID x 276mm H

 

l密封法兰:直径为274 mm,采用金属制作,密封采用O形密封圈

 

 

 

 

 

 

溅射头&样品台

 

 

l三个1英寸磁控溅射头(带有水冷夹层),采用快速接头与真空腔体相连接(具体请点击图一)

 

l仪器中安装有直径为50mm的不锈钢样品台,其与溅射头之间距离65-80mm可调

 

l样品台可加热,加热温度室温-500℃

 

l安装有一可手动操作的溅射挡板(请点击图三查看大图)

 

l最大可制膜的直径为:2英寸仅供参考,详情请点击

 

l可以单独订购RF连接线作为备用(请点击图二查看大图)

 

l设备包含一台水冷机,用于靶头冷却(具体请点击图四)

     
            图一              图二               图三          图四

 

 

 

 

 

 

 

 

真空系统
 

 

l安装有KF25真空接口

 

l数字真空压力表(Pa)

 

l此系统运行需要Ar气,并且气瓶上安装有减压阀(设备中不包含)

 

l< 3.8E-2 Torr (采用机械泵)仅供参考,详情请点击

 

l< 3.8E-5 Torr(采用涡旋分子泵)仅供参考,详情请点击

 

l可在本公司选购各种真空泵

 

 

 

 

进气

 

l设备上配1/4英寸进气口方便连接气瓶

 

l设备前面板上装有一气流调节旋钮,方便调节气流

 

 

 

 

 

 

溅射靶材

 

l靶材尺寸要求:Φ25.4 mmx(0.1 -3)mm(厚度)

 

l标配靶材种类请购买前与我公司销售确认

 

l可在本公司选购各种靶材

 

 

 

 

 

薄膜测厚仪(选配)

可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上

    

 

 

 

 

 

产品外型尺寸

 

 

560 mm L x 550 mm W x 1000 mm H  不包含炉架

 

600 mm L x600 mm W x 1600 mm H  包含炉架

净重:70 kg(不包括泵)

 

质量认证

CE认证

 

 

 

质保

 

一年保修,终身技术支持。


特别提示:1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。

2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。


点击查看售后服务承诺书。

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

使用提示

 

 

l为了保证溅射效果,非导电靶材必须安装铜垫块

 

l可在本公司购买单晶基片从A到Z(点击下图查看详情

 

l有时为了达到理想的薄膜厚度,可能需要多次溅射镀膜

 

l为了得到较好的薄膜质量,必须通入高纯气体(建议> 5N)

 

l在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净

 

l要达到薄膜与基底良好结合,请在溅射前清洁基材表面:

 

l超声波清洗(详细参数点击下面图片):(1)丙酮超声(2)异丙醇超声-去除油脂(3)吹氮气干燥(4)真空烘箱除去水分。

 

l等离子清洗(详细参数点击下面图片):可表面粗糙化,可激活表面化学键,可祛除额外的污染物。

 

l制造一个薄的缓冲层(5纳米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以应用于改善金属和合金的附着力。

 

       
   超声波清洗机      等离子清洗机            蒸镀仪            手套箱  

           

l本公司溅射镀膜机在500℃已经成功将ZnO溅射在Al2O3衬底上(点击下图查看XRD图谱)

 

  

 

 

 

 

警示

 

l注意:产品内部安装有高压元件,禁止私自拆装,带电移动机体。

 

l气瓶上应安装减压阀(设备不包括),保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。

 

l溅射头连接到高电压。为了安全,操作者必须在关闭设备后才能进行装样和更换靶头等操作。

 

 

 

免责声明

 

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