• 产品名称: 康宁7980上镀Si3N4
  • 产品编号: xjt092
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产品名称:

康宁7980上镀Si3N4Silicon Nitride Film (LPCVD) on Corning 7980

 

产品简介:

The Si3N4 film may have stressed induced micro-cracking resulted from the large difference of thermal expansion coefficient between Si3N4 and SiO2 fused silica

 

技术参数:

Si3N4薄膜:

镀膜方法:

low stress LPCVD method低压力化学气相沉积法

膜层厚度:

1.3um  +/- 5%

镀膜情况: 双面镀膜

UV级石英 UV Grade Fused Silica (Corning 0F 7980 HPFS)

常规尺寸:

dia100.0 (±0.20) mm x 0.5 (± 0.10) mm

边缘:

CNC Ground

表面质量:

60/40 

失效区域:

 2.0 mm border

TTV:

< 20 microns

抛光情况:

双面抛光(60/40)

 

产品规格:

dia100x0.5mm;10x5x0.5mm10x10x0.5mm

标准包装:

1000级超净室100级超净袋或单片盒包装

 

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