• 产品名称: 三靶磁控溅射仪--VTC-600-3HD
  • 产品编号: VTC-600-3HD
  • 产品提示: 图片及数据仅供参考,具体请致电销售热线
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     VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是最新研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。
 

操作视频

 

技术参数

主要特点

  • 配置三个靶枪,一个为弱磁靶用于非导电靶材的溅射镀膜,两个为强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。(靶枪可以根据客户需要任意调换)
  • 可制备多种薄膜,应用广泛。
  • 体积小,操作简便。
  • 整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整购买需求。
  • 可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪。

技术参数

  • 电源电压:220V   50Hz
  • 总功率:2.5KW
  • 极限真空度:< 1E-6mbar(配合本公司设备使用可达到1E-5mbar)
  • 工作温度:室温-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)
  • 靶枪数量:3个
  • 靶枪冷却方式:水冷
  • 靶材尺寸:Φ2″,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)
  • 直流溅射功率:500W(可选)
  • 射频溅射功率:300W/500W(可选)
  • 载样台:Φ140mm
  • 载样台转速:1-20rpm内可调
  • 保护气体:Ar、N2等惰性气体
  • 进气气路:质量流量计控制2路进气,每个流量为100SCCM

产品规格

  • 主机尺寸:500mm×560mm×660mm,
  • 整机尺寸:1300mm×660mm×1200mm;
  • 重量:160kg

标准配件

1

直流电源控制系统

1套

2

射频电源控制系统

1套

3

膜厚监测仪系统

1套

4

真空泵(标配)

设备标配一台GZK-103D分子泵,如需选购其他真空泵,请点击图片,或是致电我公司销售

5

冷水机

1台

6

冷却水管(Φ6mm)

4根

7

靶材(不锈钢靶、陶瓷靶)

各1件

可选配件

金、铟、银、白金等各种靶材

 

 

 

 

1

 

 

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