• 产品名称: 单靶大功率直流磁控溅射仪--VTC-16-SM
  • 产品编号: VTC-16-SM
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  • 产品型号:

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    VTC-16-SM是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪,包含一个2英寸水冷靶头(另有1英寸靶头可选)和可旋转样品台,外形小巧,性价比高,是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶材和真空泵。

 

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用直流磁控溅射仪可获得单相Al

 

技术参数

名称 2"单靶直流磁控溅射仪

 

 

视频

               宣传视频

 

 

 

基本参数

 

输入电压 AC 208V ~ 240V, 50/60 Hz    输入功率 <2KW  

 

输出功率: 电压:1600VDC    最大电流:150mA 

 

腔体:167mm OD. x 152mm ID x 260mm Height

 


 

 

 

 

 

 

 

 

溅射头和样品台


 

 

  • 一个直径50mm不锈钢样品台,样品台可旋转,旋转速率0 - 5 RPM 

 

 

  • 配有一手动操作的挡板,包含靶头支撑架

 

 

  • 样品台和靶头之间的距离可以调节,调节范围:60-100mm


  •       


  •     (点击图片查看详细资料)

 

 

控制面板

6" PLC集成触摸屏控制面板,可控制真空、电流、靶材位置和基片加热温度


 

 

 

 

 

附件(可选)

 

  • 双极旋片真空泵VRD-8(可选配)KF25接口

 

  • KF25不锈钢波纹管

 

  • 10L/min 循环水冷机冷却磁控靶头  
      

 

 

气氛

含一个控制进气的针阀和一个放气阀


 

靶材


 

 

  • 适合溅射Au,Ag,Cu,Al,Cr,Ti,Sn等金属,可选购

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

可选配件


  • 膜厚监测仪

 

 

  • 分子泵,可获得高真空, >10E-5 torr

 

 

  • 为获得最好的薄膜强度,建议镀膜前用等离子清洗机对基片进行清洗。

 

 

  • 500度样品加热台         
      


 

 

 

 

尺寸

   

      


  L 440mm×W 330mm × H 290mm 

 

净重

20 kg ( not included pump )

 

质保和证书

  • 一年质保,终生维护

  • CE认证

磁控溅射镀膜知识

与客户分享最新的磁控溅射镀膜技术,请点击文章链接Plasma Sputter Coating.  

 

 

 

 

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