电源 | · 电压:AC380V 三相 50/60Hz · 功率:8KW |
真空腔体 | · 不锈钢(SS304)真空腔体:内径 400mm×高度 450mm,表面处理为抛光 · 设有直径100mm的观察窗口 · 铰链式门,便于样品装载 · 每个蒸发皿配备电动遮挡片 · 一个 ISO-100K 端口,用于与分子泵系统和阀连接 |
真空泵(可选) | · 260 L/s 分子泵系统 · 真空度: 5.0x10-6 Torr ( 抽真空40分钟后 ) · 泄漏率: 5.0x10-7 Pa · 真空接口: DN 100 ISO-K · 需要一台机械泵作为辅助泵,以初步达到< 1e-2 Torr的真空度水平 |
蒸发源&样品架 | · 6个蒸发源 · 2个钨舟的蒸发源(采用水冷电极),无温控,最高温度可达1500℃ · 4个电阻加热蒸发源,温控型,最高温度700℃ |
原位薄膜测厚仪(可选) | · 石英晶体振荡原位测厚 · 厚度测量的精度为 1.0 埃 |
控制单元 | · 真空度、厚度和功率控制被整合到了一个控制箱中 · 控制单元与真空室相分离,便于移动 |
镀膜仪在手套箱中(可选) | · 镀膜仪可以放置在单体或双体手套箱内,并通过滑动门进行操作 · 有关手套箱的更多详细信息,请参见此处:VGB-6-II |
循环水冷机 | · 水冷:水流速> 16 L/min用于电极冷却 |