1100℃高压(1.2MPa)液相外延单晶生长炉&手套箱系统
型号:
HP1100X-LPEGB
产品概述:
HP1100X-LPEGB结合了液相外延单晶生长炉和手套箱系统,可在气氛保护环境下装配材料和进行单晶生长。设备可在高温(700℃)高压(1.2MPa)环境下进行液相外延单晶生长。此款设备特别适合用于生长HgCdTe(MCT)和其他单晶薄膜。
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技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
设备结构

·三温区立式加热炉,最高温度1100℃

·配有高纯石墨坩埚和石墨样品台

·腔室顶盖自动打开,位于手套箱内,方便样品和支架更换

·手套箱内部装有自动移动架和大型转移室自动门,便于样品更换和放置


电源要求

·单相AC 220V 50/60HZ

·最大功率6 kW 


加热元件

·电阻丝


工作温度

·最高工作温度:1100ºC (< 1 hr.)

·连续工作温度1000ºC

·建议升温速率≤10°C/min 


加热区

·150mm+200mm+150mm (3个加热区独立控制)

·恒温区长度: ≥ 170mm 

·恒温区中的温度均匀性: 400-600°C ±3°C

                600-900°C ±0.5°C


晶体生长

·最大基材尺寸:≤60*60mm

·每批基板数量:≤3片

·上拉机构行程:100mm

·上拉速度范围:0.05mm/h -10mm/h

·拉杆旋转速度范围:1-10rpm


高压腔体

·SS304不锈钢

·腔室尺寸:φ370mm(外腔)*φ350mm(内腔)*1200mm

·最大压力:1.2 MPa(≤700℃)

·流动气氛下恒压控制,压力控制精度:±1%

·进气口配有质量流量控制器,进气流量计量程:1000sccm

·压力传感器安装在腔室顶盖上,实时监测内部压力变化

·电磁安全阀与机械安全阀双重安全保护


手套箱系统

·电源:220VAC, 50/60Hz,单相

·功率:2KW

·腔室材料:304不锈钢

·前后开口钢化安全玻璃窗设计

·有效内部尺寸:1200*800*1200mm(长*宽*高)

·在手套箱箱体顶部安装滑动料盘接口:机箱背面有4个KF40接口

·2个过渡仓:

·大过渡仓尺寸:Φ360mm ID ×长度600mm

·小过渡仓尺寸:Φ150mm ID ×长度300mm

·滑动托盘内安装有大型自动门传送室

·最大真空度:100Pa

·丁基橡胶手套尺寸:Φ203mm × 813mm

·循环工作气体:N2、Ar、He

·鼓风量:90m³/h

·触摸屏PLC控制,自动再生

·再生气体:混合氢气的工作气体(氢气5%-10%)

·标配240L/min抽速双极旋片机械泵,泵出口处安装油雾过滤器


温度和压力控制系统

·PID自动温度控制系统

·温度控制精度:±0.1°C

·热电偶:K型

·触摸屏控制三个独立的温度区域控制器

·加热曲线可以在触摸屏上查看,保存和导出

·压力可以在触摸屏上设置

·内腔压力实时显示

·真空泵和真空阀可通过触摸屏控制


真空系统

·泵送速率:6l /S

·极限压力:4*10-1Pa(无负载,仅机械泵)

·额定功率:1500w


产品尺寸

·泵送速率:6l /S

·极限压力:4*10-1Pa(无负载,仅机械泵)

·额定功率:1500w


产品重量

·~500kg


应用注意

·本设备正常工作温度可达1000℃,最大压力1.2MPa(高纯氩气环境下)。操作时请勿超过温度或压力限制

·不要引入腐蚀性气体,如氯化物或硫化物,因为它们可能损坏组件

·待炉温恢复到室温后再打开炉盖。样品可能仍处于高温状态,请小心操作,并使用手套或其他工具


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