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技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
| 产品名称
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康宁7980上镀Si3N4（Silicon Nitride Film (LPCVD) on Corning 7980）
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| 产品简介
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The Si3N4 film may have stressed induced micro-cracking resulted from the large difference of thermal expansion coefficient between Si3N4 and SiO2 fused silica
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| 技术参数
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Si3N4薄膜： | 镀膜方法： | low stress LPCVD method低压力化学气相沉积法 | 膜层厚度： | 1.3um +/- 5% | 镀膜情况： | 双面镀膜 | UV级石英 UV Grade Fused Silica (Corning 0F 7980 HPFS)： | 常规尺寸: | dia100.0 (±0.20) mm x 0.5 (± 0.10) mm | 边缘： | CNC Ground | 表面质量： | 60/40 | 失效区域： | 2.0 mm border | TTV: | < 20 microns | 抛光情况： | 双面抛光(60/40) |
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| 产品规格
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dia100x0.5mm；10x5x0.5mm；10x10x0.5mm
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| 标准包装
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1000级超净室100级超净袋或单片盒包装
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