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1200℃桌面式开启立式炉
型号:
OTF-1200X-S-VT
产品概述:
OTF-1200X-S-VT是一款小型开启式立式管式炉,其炉管直径为25mm或50mm,适合于对样品在真空或气氛保护环境下吊烧和淬火。采用PID方式进行温度调节,可设置30段升降温程序,控温精度为±1℃。
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技术参数实验案例警示/应用提示配件详情
名称

1200℃桌面式开启立式炉OTF-1200X-S-VT

炉体结构

l采用双层壳体结构并带有风冷系统,使得壳体表面温度小于60℃

l炉体设计为开启式,以方便与更换炉管

l采用高纯氧化铝作为炉膛材料,炉膛表面涂有美国进口高温氧化铝涂层可以提高加热效率和炉膛使用寿命


基本参数

温度最高1100℃ (长期1000

   

建议升温速率10℃/min

 

热偶:K型热偶    

额定功率:1.2KW


炉管尺寸

以下两种石英管可选:


lΦ25mm×610mm


lΦ50mm×610mm


加热区

加热区长度:200mm

加热元件

掺钼铁铬铝(表面涂有氧化锆涂层,可以极大程度延长使用寿命)

温控系统

l包含一款YD518P型温度控制器

lPID自动控温系统

l智能化30段可编程控制

l控温精度:±1℃

l默认DB9 PC通信连接端口

l通过MET认证

l可选购电脑温度控制软件(用于YD518P系列控制器)用于控制升温曲线和导出数据。


密封法兰

1.上端法兰上焊有一吊环,以方便用高温丝将样品吊在炉管中进行烧结

2.可选:本公司生产的带铰链式法兰和进口的防腐型数字式真空计

  

3.多种接头可选,具体请咨询销售部


应用提示

l参照图片,了解怎样用立式炉对样品进行淬火

l图1:用传统的方法将悬挂丝剪断,样品坠落

l图2:使用电磁阀使样品坠落


l图5:可将此立式炉改造为HPCVD(混合物理化学气相沉积实验炉)

l图6:也可用此设备来对样品进行焊接

l图4:可在本公司可以订购高温丝(镍铬合金),可达温度1100


外形尺寸

340mm×300mm×1300mm ( W x L x H)

净重

约20 kg

国家专利

专利名称:立式开启式管式炉

专利编号:ZL-2011-2-0162248. X

尊重创新、鄙视抄袭、侵权必究


质保期

一年保修,终身技术支持。


特别提示:1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。

2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。


点击查看售后服务承诺书


真空系统

l通过机械泵可达到10E-2 Torr.参考值,具体请点击

l通过分子泵泵可达到10E-5 Torr.参考值,具体请点击

l真空泵可选


质量认证



使用注意事项

l炉管内气压不可高于0.02MPa

l由于气瓶内部气压较高,所以向炉管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀,为了确保安全,建议使用压力低于0.02MPa,建议在本公司选购减压阀,本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加精确安全

l石英管的长时间使用温度<1100℃

l当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压相当

l进入炉管的气体流量需小于200SCCM,以避免冷的气流对热管的冲击

l对于样品加热的实验,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若气压表示数大于0.02MPa,必须立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉 管破裂,法兰飞出等)


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